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曹四海

作品数：14 被引量：0H指数：0
供职机构：国家纳米科学中心更多>>
发文基金：国家自然科学基金中国科学院知识创新工程重要方向项目北京市自然科学基金更多>>
相关领域：理学电子电信机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 12篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 5篇激光
  • 5篇激光直写
  • 4篇掩模
  • 4篇热阻
  • 4篇光刻
  • 4篇合金
  • 4篇二元合金
  • 3篇光学
  • 2篇点阵
  • 2篇形貌特征
  • 2篇颜料
  • 2篇衍射
  • 2篇衍射极限
  • 2篇氧化物
  • 2篇只读光盘
  • 2篇溶液浸泡
  • 2篇三明治
  • 2篇双金属
  • 2篇气相沉积
  • 2篇清洗工艺

机构

  • 14篇国家纳米科学...
  • 1篇中国科学院上...

作者

  • 14篇刘前
  • 14篇曹四海
  • 14篇郭传飞
  • 4篇李晓军
  • 2篇苗俊杰
  • 2篇田野
  • 1篇范永涛
  • 1篇徐文东

传媒

  • 1篇物理
  • 1篇光子学报

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2012
  • 6篇2011
  • 1篇2010
  • 3篇2009
  • 2篇2008
共 14 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种微米/纳米尺度BiOCl薄膜材料及其制备方法
本发明涉及一种微米/纳米尺度BiOCl薄膜材料及其制备方法，该材料包括一基底，在基底上沉积一层金属铋薄膜，再以金属铋薄膜为原料形成一层由二维BiOCl纳米片构成的BiOCl薄膜，该BiOCl薄膜的厚度为30nm-2μm。...
曹四海郭传飞刘前
一种基于激光直写金属薄膜线性可控制备纳米点阵的方法
本发明涉及基于激光直写金属薄膜可控制备纳米点阵的方法，其包括采用在衬底上沉积金属膜层，膜厚控制在5nm～200nm；使用激光直写系统，经过系统光路聚焦，在沉积得到的金属膜层上进行刻写；充分利用激光光束的高斯分布特性和膜层...
王永胜刘前曹四海郭传飞苗俊杰田野
一种用于光刻技术的无机热阻膜
本发明涉及一种用于光刻技术的无机热阻膜，包括基底、在基底上依次生长的无机金属薄膜Al和无机金属薄膜B；还包括在无机金属薄膜B的另一面上再生长一层相同的无机金属薄膜A2；所述的无机金属薄膜Al和无机金属薄膜A2为相同的金属...
刘前曹四海郭传飞李晓军
文献传递
一种基于激光直写金属薄膜线性可控制备纳米点阵的方法
本发明涉及基于激光直写金属薄膜可控制备纳米点阵的方法，其包括采用在衬底上沉积金属膜层，膜厚控制在5nm～200nm；使用激光直写系统，经过系统光路聚焦，在沉积得到的金属膜层上进行刻写；充分利用激光光束的高斯分布特性和膜层...
王永胜刘前曹四海郭传飞苗俊杰田野
文献传递
带有氧化物掩模的局域微缩光刻膜
本发明涉及一种带有氧化物掩模的局域微缩光刻膜，包括基底，和依次沉积在基底上的第一保护层、氧化物掩模层、第二保护层、第一金属薄膜和第二金属薄膜；所述的第一金属薄膜和第二金属薄膜，是两种金属在相对较低温度≤500℃下，能形成...
刘前曹四海郭传飞李晓军
文献传递
高准确度多功能激光直写装置
2009年
采用高数值孔径物镜和高准确度纳米平台搭建了一台激光直写装置,可以在光敏感薄膜材料上进行打点、刻画矢量和标量图形等多种操作,其最小特征尺寸小于300nm,重复性5nm.在刻写前准确标定刻写激光功率,刻写过程中采用象散法精确自动聚焦,刻写完成后采用两种不同波长的激光束探测样品的透过率和反射率的细微变化,最终实现了高准确度亚微米图形的刻写和检测.
范永涛徐文东刘前郭传飞曹四海
关键词：激光直写微纳加工自动聚焦
一种具有超分辨近场结构的只读光盘
本发明涉及具有超分辨近场结构的只读光盘，包括：衬底，在衬底上顺序沉积的第一超分辨近场结构层，热阻记录介质层和保护层，或者再在热阻记录介质层沉积第二超分辨近场结构层；所述的第一超分辨近场结构层由顺序沉积的第一介电层、掩模层...
刘前郭传飞曹四海
文献传递
一种微米/纳米尺度BiOCl薄膜材料及其制备方法
本发明涉及一种微米/纳米尺度BiOCl薄膜材料及其制备方法，该材料包括一基底，在基底上沉积一层金属铋薄膜，再以金属铋薄膜为原料形成一层由二维BiOCl纳米片构成的BiOCl薄膜，该BiOCl薄膜的厚度为30nm-2μm。...
曹四海郭传飞刘前
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一种金属光学灰度掩模及其制作方法
一种金属光学灰度掩模包括在透明衬底上沉积一层金属薄膜，在金属薄膜表面进行激光直写，形成连续的、列阵式或任意图形的不同透明度的图形，其灰度值范围为3.0-0.05D，金属薄膜的厚度为5-100纳米。光学灰度掩模的制作方法包...
郭传飞刘前曹四海王永胜
文献传递
一种金属光学灰度掩模及其制作方法
一种金属光学灰度掩模包括在透明衬底上沉积一层金属薄膜，在金属薄膜表面进行激光直写，形成连续的、列阵式或任意图形的不同透明度的图形，其灰度值范围为3.0-0.05D，金属薄膜的厚度为5-100纳米。光学灰度掩模的制作方法包...
郭传飞刘前曹四海王永胜
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