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文献类型

  • 8篇期刊文章
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  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 2篇轻工技术与工...
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学
  • 1篇机械工程

主题

  • 5篇镀膜
  • 3篇减反膜
  • 3篇光学
  • 2篇氧化钇
  • 2篇中波
  • 2篇双波段
  • 2篇锑化铟
  • 2篇硫化
  • 2篇硫化锌
  • 2篇结合层
  • 2篇波段
  • 1篇带通滤光片
  • 1篇导引头
  • 1篇亚胺
  • 1篇增透
  • 1篇增透膜
  • 1篇射频溅射
  • 1篇湿热
  • 1篇湿热环境
  • 1篇探测器

机构

  • 8篇中国航空工业...
  • 2篇中国航空工业...
  • 2篇中国空空导弹...
  • 1篇南开大学

作者

  • 12篇苏现军
  • 5篇陈凤金
  • 3篇司俊杰
  • 2篇何家元
  • 2篇孙维国
  • 2篇王海珍
  • 2篇陈洪许
  • 1篇徐岩
  • 1篇吕衍秋
  • 1篇何英杰
  • 1篇郭云芝
  • 1篇王三煜
  • 1篇张向锋
  • 1篇张亮
  • 1篇向军荣
  • 1篇王晶

传媒

  • 2篇应用光学
  • 2篇清洗世界
  • 1篇光学技术
  • 1篇内江科技
  • 1篇半导体光电
  • 1篇光学仪器
  • 1篇第十一届全国...

年份

  • 1篇2016
  • 3篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2011
  • 1篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2003
  • 2篇2001
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种借助硅实现大片锑化铟阵列芯片的转移方法
本发明公开了一种借助硅实现大片锑化铟阵列芯片的转移方法,采取一种硅-硅键合结构实现大片锑化铟阵列芯片[1]的背面减薄及转移,其步骤包括:首先在背面减薄使用的玻璃垫板[6]上粘接一圆形单抛硅片[4]作为衬底,然后在硅衬底粗...
向军荣吕衍秋张向锋张亮孙维国司俊杰王海珍陈洪许苏现军刘慧王晶
HCFC-141B在光学镀膜基片清洗上的应用被引量:1
2016年
叙述了HCFC-141B的物理化学特性,阐述了HCFC-141B在光学零件镀膜前的清洗方法。HCFC-141B具有沸点低、去污力强、安全环保、稳定性强等特性,广泛应用于光学零件镀膜前的清洗。
陈凤金苏现军
关键词:HCFC-141B镀膜沸点
湿热环境对Ge基中波减反射膜可靠性的影响被引量:1
2015年
采用双面抛光的锗片为基底,镀制中波减反射膜,在湿热环境中分别持续24h、2×24h、3×24h、4×24h、5×24h、…、12×24h之后,研究了湿热环境对Ge基中波减反射膜的光学特性、牢固性等可靠性的影响。实验结果表明:在现有工艺条件下,所镀制的Ge基中波减反射膜经不同时间的湿热环境之后,透过率逐渐变低,并出现CO2和H2O的特征吸收峰,吸收峰是减反射膜长时间持续在湿热环境下CO2和H2O含量增大所致;湿热环境10×24h后,边缘膜层开始出现脱落现象,12×24h后,膜层平均透过率低于85%。
陈凤金苏现军马胜昔孙永燕阎凯
关键词:湿热环境减反射膜可靠性镀膜
薄膜滤光片镀膜工序能力指数分析
2014年
阐述了工序能力指数(Cpk)的理论原理及计算方法。通过对某带通滤光片截止区域截止点所在波长位置的统计分析,从截止点(透过率T为5%的点)的分布情况,计算分析得出其Cpk值主要在1.0~1.33之间。提出了有效提高滤光片镀膜工序能力指数的方法和途径,包括减小参数分布的标准偏差δ、优化调整工艺条件,以及尽可能减小工艺参数分布中心μ与规范中心值T0之间的偏离等。
陈凤金苏现军司俊杰王三煜
关键词:镀膜CPK
双色滤光片光刻剥离技术研究
2008年
文中利用聚酰亚胺高聚物的耐温性和高粘度性,巧妙地和光刻胶结合,解决了厚膜镀制中光刻胶炭化难以剥离的问题;利用聚酰亚胺在碱性显影液中有很好的可溶性,优化了光刻胶和聚酰亚胺的厚度比,得到了好的工艺参数和易于剥离的面形,解决了小图形光刻剥离的难题。
王海珍何英杰苏现军
关键词:聚酰亚胺
紫外应用的ITO薄膜研究
探测器及其制造技术广泛地应用于军事、科技、民用等研究领域.随着越来越高的需求和半导体材料制备技术的发展,机械性能好、化学稳定和截止性能优良的GaN基Ⅲ-氮族紫外光电器件受到人们的极大青睐.该论文以ITO薄膜制备及其在Ga...
苏现军
关键词:ITOGAN射频溅射欧姆接触肖特基接触快速热退火
文献传递
硫化锌基底上减反膜的镀制
硫化锌是红外波段重要的光学材料,在许多光电系统应用中,要求镀制适当的减反膜增加其透过率.介绍了硫化锌基底上的减反膜,该设计是用薄的氧化钇层作为与硫化锌的结合层,用一氧化硅和锗分别作为低、高折射率膜料的膜堆组成的.这种五层...
苏现军何家元
关键词:结合层膜系设计
文献传递
一种双波段双L型探测器芯片
本发明一种双波段双L型探测器芯片属于光电子技术领域,涉及对L型探测器芯片的改进。采用锑化铟或碲镉汞基体材料C制成,其特征在于,在基体材料C上有一个呈L型分布的中波光敏元A,在L型分布的中波光敏元A直角的外部有一个平行于L...
孙维国陈洪许苏现军郭云芝
光学滤光片镀膜前清洗技术及发展趋势被引量:5
2015年
对于镀膜工序来说,基底的清洗是必不可少的一个环节,基底清洁程度是影响镀膜产品质量的关键因素之一,保障元件镀膜前表面高洁净度,降低薄膜内的杂质污染物,镀膜前的洁净清洗至关重要。综述光学滤光片镀膜前常用的基片清洗方法,包括擦拭清洗、超声波清洗、汽相清洗和离子束清洗方法,阐述光学滤光片镀膜前基片清洗工艺和其他清洗技术一样,主要朝绿色环保、全自动、高效、低成本的趋势发展。
陈凤金苏现军
关键词:镀膜超声波
低温对中波红外带通滤光片光谱特性的影响被引量:5
2015年
为考察滤光片在低温环境下的可靠性,镀制了Ge基和宝石基中波带通滤光片,分别实施了5min、15min、25min、35min、120min、300min的液氮低温试验,并测试出其透过率曲线,考察低温对其光谱特性及膜层牢固度的影响。带通滤光片通带区透过率随低温时间增长有逐渐下降趋势,中心波长出现13nm的微小偏移,是所镀制的膜料高、低折射率相对变化使中心波长和截止波长的比值发生变化所致。Ge基材料对温度更为敏感,在由常温到低温过渡期间,Ge基中波滤光片通带透过率降低幅度比宝石基底的中波带通滤光片大10%。在300min以内的低温环境下,2种中波红外带通滤光片均未出现膜层脱落现象。
陈凤金马胜昔苏现军经凌
关键词:中波带通滤光片光谱特性透过率
共2页<12>
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