苏阳
- 作品数：8 被引量：25H指数：4
- 供职机构：西安理工大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：机械工程理学金属学及工艺更多>>
- Cr/C复合镀层的制备及其力学性能研究被引量：1
- 2008年
- 采用磁控溅射技术,以溅射石墨靶为C元素主要来源的方法制备了不同碳含量的Cr/C复合镀层。研究了碳含量对镀层相结构及元素存在状态的影响,并考察了碳含量变化后镀层硬度,韧性,结合强度等力学参量的变化。结果表明:该方法制备的Cr/C镀层中碳化物相主要是Cr3C2。随着碳含量的增加,镀层由晶态向非晶态结构过渡;镀层中的碳化物相也相应减少;镀层的硬度则随之而上升,韧性则下降。碳含量为75.08%的镀层结合强度最差。碳含量为42.37%,51.93%表现出较好的综合力学性能。
- 苏阳蒋百灵白力静龙艳妮王伟
- 关键词：磁控溅射X射线衍射X射线光电子能谱力学性能
- 微弧氧化与磁控溅射的工程应用
- 本文从微弧氧化与磁控溅射的技术原理角度分析了两种表面处理方法存环境保护及性能设计等方面的工艺优点和所得涂层的性能特点;总结了经微弧氧化和磁控溅射处理的金属制品因整体性价比提高而为产品带来的竞争优势;并以技术原理和应用实例...
- 蒋百灵杨巍苏阳
- 关键词：微弧氧化磁控溅射轻量化
- 文献传递
- 微弧氧化与磁控溅射的工程应用被引量：8
- 2008年
- 从微弧氧化与磁控溅射技术原理的角度,分析了两种表面处理方法在环境保护及性能设计等方面的工艺优点和所得涂层的性能特点;总结了两种工艺处理的金属制品因整体性价比提高而为产品带来的竞争优势;并以技术原理和应用实例为依据,探讨了微弧氧化与磁控溅射在制造业轻量化和精密化进程中应有的功能,以期为寻求扩大中国制造业利润空间的良策起到抛砖引玉作用。
- 蒋百灵杨巍苏阳
- 关键词：微弧氧化磁控溅射轻量化
- 基体偏压对磁控溅射类石墨镀层摩擦磨损性能的影响被引量：4
- 2008年
- 利用4靶非平衡磁控溅射离子镀技术在Si(100)和W6Mo5Cr4V2高速钢基体上沉积类石墨镀层,研究了基体偏压与类石墨镀层的显微硬度、摩擦系数、比磨损率的关系,采用扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)分析了基体偏压对镀层的表面、断面形貌及微观结构的影响.结果表明:随着基体偏压值的增大,镀层的沉积速率下降,显微硬度和结合强度先增后降,摩擦系数和比磨损率则先降后升.不同偏压对应了不同的显微结构,当基体偏压为-65 V左右,镀层具有良好的力学性能和减摩耐磨性能,对应镀层表面光滑、结构致密,断面呈细纤维结构,镀层由C、Cr和CrCx纳米晶粒组成非晶结构.
- 严少平蒋百灵苏阳张永宏
- 关键词：非平衡磁控溅射摩擦磨损性能显微结构
- 磁控溅射Cr/C镀层耐热性能研究被引量：3
- 2008年
- 在空气炉加热环境下于不同温度对采用磁控溅射离子镀技术制备Cr/C镀层样品进行加热保温处理。研究了不同加热温度下镀层的相结构、硬度和结合力的变化,考察了Cr/C镀层的耐热性能。结果表明:在600℃以下,Cr/C镀层保持了高硬度和强结合力的性能,表明镀层具有良好的耐热性能;镀层受热过程中生成了致密的铬氧化物及铬碳化合物,起到阻碍了氧原子向内层扩散的效果,使镀层氧化失稳的温度大大提高,从而保证了良好的耐热性能;处理温度达800℃后,镀层硬度和结合力明显下降。
- 严少平蒋百灵苏阳白力静龙艳妮
- 关键词：磁控溅射耐热性能
- 碳含量对磁控溅射Cr/C镀层摩擦磨损性能的影响被引量：4
- 2008年
- 采用磁控溅射技术在高速钢和单晶硅基体上制备Cr/C镀层,利用X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪分析镀层结构及元素状态,采用显微硬度计测量镀层的硬度及韧性,通过销-盘式摩擦磨损试验机及光学显微镜研究镀层不同磨损阶段的磨损行为.结果表明:镀层由C、Cr及Cr3C2等相组成;随着碳含量增加,镀层的硬度从HV1 300升至HV1 900,韧性变差;与未镀层的基体相比,镀层的摩擦系数从0.70降至0.48,当碳含量为74%时,摩擦系数降至0.35;增加碳含量能够明显改善镀层的抗黏着性能,碳含量为14%及40%的镀层以严重的黏着磨损为主,而碳含量为74%镀层的黏着程度最轻,其磨损形式以黏着磨损和磨粒磨损为主.
- 蒋百灵苏阳
- 关键词：摩擦磨损性能
- 磁控溅射类石墨镀层结构的Raman光谱和XPS分析被引量：6
- 2008年
- 利用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅片上沉积了类石墨碳镀层，采用X射线衍射（XRD）、激光Raman光谱和X射线光电子能谱（XPS）等分析方法对镀层的微观结构进行了研究。结果表明：不同成份类石墨碳镀层的Raman光谱与宽化的多晶石墨Raman光谱相似，类石墨碳镀层是以sp。键结构为主，且舍有多种纳米团簇颗粒的非晶镀层，sp^3键含量在12～15％范围；根据高斯解谱计算，镀层中碳团簇线度为1．2nm以下，并随铬含量增高而减小；镀层主要由单质碳、铬及其铬氧化物组成，并随铬含量增高，逐步有碳铬化合物形成。
- 严少平蒋百灵苏阳张永宏
- 关键词：非平衡磁控溅射RAMAN光谱X射线光电子能谱
- 碳含量对磁控溅射Cr/C镀层性能的影响
- 本文采用磁控溅射技术以溅射石墨靶作为碳元素主要来源的方法在高速钢和单晶硅基体上制备了Cr/C镀层。采用XPS及XRD对镀层的化学成分和微观结构进行了分析;使用显微硬度计、划痕仪等对镀层的硬度、韧性和结合强度等力学性能进行...
- 苏阳
- 关键词：磁控溅射化学成分微观结构力学性能镀层性能
- 文献传递
