严少平
- 作品数：30 被引量：69H指数：5
- 供职机构：安徽理工大学理学院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划安徽省自然科学基金安徽省高校省级自然科学研究项目更多>>
- 相关领域：理学机械工程一般工业技术电子电信更多>>
- 集成化Drop-in微带环行器被引量：2
- 2001年
- Drop- in微带环行器 (或落入式 )是适应于毫米波集成电路要求的一种新型微波器件。在对此类器件的结构和特性进行介绍的同时 。
- 严少平
- 关键词：微带环行器集成电路结构形式
- 交叉关联噪声对光学双稳系统平均首通时间的影响被引量：2
- 2009年
- 研究了乘性色噪声和加性白噪声驱动的光学双稳系统中噪声对系统两个方向平均首通时间T+(xs1→xs2)和T-(xs2→xs1)的影响(平均首通时间是指从一稳态出发越过势垒到另一稳态所用时间的平均值).通过Novikov定理和Fox近似方法得到相应的Fokker-Planck方程,利用最速下降法得到T+(xs1→xs2)和T-(xs2→xs1)的表达式.研究发现:乘性噪声强度Q和加性噪声强度D对T+(xs1→xs2)的影响相同,对T-(xs2→xs1)的影响不同;T+(xs1→xs2)随乘性色噪声自关联时间τ的增大而增大,但随噪声间的交叉关联强度λ的增大而减小;T-(xs2→xs1)随τ的增大而减小,随λ的增大而增大.
- 王兵严少平吴秀清
- 关键词：平均首通时间光学双稳系统
- BCN薄膜的硬度和剩余应力的研究
- 2005年
- 类金刚石结构的立方“BCN”材料由于兼有金刚石和立方氮化硼超硬、低摩擦的优点, 如有低摩抗磨、高的热稳定性和化学稳定性,并克服了它们的缺点,因而BCN薄膜材料被作为耐磨保护层,在电学、光学方面的性能也得到广泛应用。应用反应磁控溅射法将高质量的BCN 薄膜沉淀在硅基底上,通过用微压痕测量和弯曲技术研究了他们硬度和剩余应力,发现施于薄膜沉淀物上的偏压对其硬度和剩余应力均有重要影响。
- 孙雅琴严少平
- 关键词：射频磁控溅射偏压
- 磁控溅射类石墨镀层结构的Raman光谱和XPS分析被引量：6
- 2008年
- 利用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅片上沉积了类石墨碳镀层，采用X射线衍射（XRD）、激光Raman光谱和X射线光电子能谱（XPS）等分析方法对镀层的微观结构进行了研究。结果表明：不同成份类石墨碳镀层的Raman光谱与宽化的多晶石墨Raman光谱相似，类石墨碳镀层是以sp。键结构为主，且舍有多种纳米团簇颗粒的非晶镀层，sp^3键含量在12～15％范围；根据高斯解谱计算，镀层中碳团簇线度为1．2nm以下，并随铬含量增高而减小；镀层主要由单质碳、铬及其铬氧化物组成，并随铬含量增高，逐步有碳铬化合物形成。
- 严少平蒋百灵苏阳张永宏
- 关键词：非平衡磁控溅射RAMAN光谱X射线光电子能谱
- 使用梯度过渡层的掺Cr碳膜的显微组织特征被引量：2
- 2010年
- 为了探究C、Cr两种主要成膜元素在非晶碳膜中的存在和分布状态,采用非平衡磁控溅射离子镀技术制备出了具有梯度过渡层的掺Cr碳膜,利用高分辨透射电子显微术(HRTEM)分析了薄膜的显微组织.结果表明,沉积在硅晶片上的纯Cr底层具有典型的柱状晶结构,其上的梯度过渡层则由各种形态的Cr纳米晶和富碳非晶基质构成.沿薄膜生长方向,随着Cr含量逐渐降低,过渡层中的Cr纳米晶依次形成层片晶、岛状晶和微晶.掺Cr碳膜的工作层则是一种非晶的纳米多层膜.膜中的C始终以非晶态存在,所观察到的结晶相均属金属Cr,同时纯Cr层柱状晶和过渡层中的各种Cr纳米晶都不同程度地具有(110)晶面的择优取向.
- 张永宏蒋百灵陈迪春严少平
- 关键词：非晶碳膜梯度过渡层显微组织
- 纳米氢氧化镍粒子微乳液/反相胶团法制备与表征被引量：18
- 2002年
- 微乳液为制备纳米级材料提供了良好的微环境 .文章首次分别采用微乳液法与反相胶团法合成了纳米β-Ni(OH) 2 和纳米α -Ni(OH) 2 ;采用粉末晶体衍射、透射电镜和选区电子衍射对纳米氢氧化镍颗粒进行了表征 .粉末晶体衍射与透射电镜分析表明这两种纳米颗粒的基本直径为 10nm .选区电子衍射表明 ,两种纳米颗粒主要由多晶结构组成 ,同时其表面还存在有非晶氢氧化镍 .非晶相的产生是由于快速成核的氢氧化镍颗粒在表面活性剂的作用下 ,长大的速度被迅速“冻结”而形成的 .
- 严少平
- 关键词：选区电子衍射微乳液纳米材料电极材料非晶相
- 非平衡磁控溅射CrTiAlN镀层摩擦学性能分析被引量：10
- 2006年
- 为探讨C rT iA lN镀层高硬度、低磨损机理,应用UDP850/4镀层设备,在高速钢和单晶硅基体上制备了C rT iA lN复合镀层,并测试了其力学性能和摩擦学性能,采用XRD、SEM、TEM等手段对镀层微观组织结构进行了分析。结果表明:在75 V负偏压下沉积的镀层具有显微硬度高、摩擦系数小,磨损率低,膜/基结合和韧性良好;镀层由C rN、T iN、A lN、C r2N和T i2N等纳米晶组成;纳米晶粒弥散于非晶的结构是硬度增强的机理;良好的膜基结合、韧性好和低摩擦系数是镀层具有低磨损的原因。
- 严少平孙雅琴段冰顾广颐蒋百灵
- 关键词：非平衡磁控溅射显微硬度摩擦磨损性能
- 用复合势模型研究电子对原子的散射
- 2007年
- 构造了一种简化的电子与原子碰撞的复合势原子模型,并结合势能独立性原理的思想,研究了中等能量电子对原子的散射,得出了电子受原子散射的各种截面的理论计算公式,探索性地将独立性原理方法应用于电子与原子的碰撞截面的计算.应用复合势模型编程计算了电子被氦原子散射的总散射截面,计算结果与实验数据较符合.
- 陈翠微严少平
- 关键词：微分散射截面
- 计算刚体上力做功应注意的两个问题
- 2004年
- 本文讨论了计算作用于刚体上的力和力系做功时容易发生的错误,并提出了相应正确的解题方法。
- 严少平顾广颐
- 关键词：刚体虚功原理
- 石墨靶电流对类石墨镀层摩擦性能的影响被引量：2
- 2007年
- 用非平衡磁控溅射离子镀技术制备含铬类石墨镀层,研究了石墨靶电流对磁控溅射法制备类石墨镀层摩擦性能的影响。通过扫描电镜、原子力显微镜、透射电镜等分析了镀层的表面形貌与组织。结果表明:所制备镀层的硬度随着石墨靶电流的升高而增加;镀层的摩擦系数和比磨损率随靶电流的增大呈现先降后升的趋势;扫描电镜和原子力显微镜图片分析表明镀层表面呈典型的岛团状聚集态,且随着石墨靶电流增大,镀层表面岛团状尺寸变大、镀层表面粗糙度随之增大。用高分辨透射电镜分析显示:靶电流较小时碳层中出现Cr元素富集区,随着石墨靶电流的增大,表面层中的Cr弥散分布。
- 严少平蒋百灵段冰
- 关键词：非平衡磁控溅射
