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李爱珍
作品数:
56
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H指数:5
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中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所
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中国科学院上海冶金研究所上海微...
齐鸣
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陈建新
中国科学院上海技术物理研究所
郑燕兰
复旦大学信息科学与工程学院电子...
林春
中国科学院上海冶金研究所上海微...
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1998
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1997
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1996
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1995
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1993
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1992
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1991
1篇
1989
共
56
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锑化镓的光助微刻蚀及其表面氧化物的研究
被引量:3
1996年
用电化学和光电化学方法研究锑化镓表面的腐蚀以及锑化镓表面氧化膜的生成和溶解.锑化镓电极在一定电势下生成的氧化腹,用俄歇能谱证明,其主要成分为难溶的氧化锑,此氧化膜的存在抑制了锑化镓的进一步腐蚀,同时亦使锑化镓的半导体光电化学性能大为减弱.通过激光微刻蚀及电子显微镜的观察,在刻蚀剂中添加酒石酸、柠檬酸和氢氟酸等试剂,可使刻蚀图形得到改善.实验研究了锑化镓的平带电势的测定.
曹阳
陆寿蕴
李爱珍
关键词:
锑化镓
表面氧化膜
光通信波段超高速PIN光电探测器的新进展
被引量:5
2001年
对自 2 0世纪 90年代以来在InGaAsPIN超高速光电探测器的研究上所取得的进展进行了综述 ,介绍了传统型的面入射光电探测器、波导型光电探测器、渐变耦合型光电探测器、小平面折射型光电探测器、反射型光电探测器和单极型光电探测器等的新进展 ,同时也介绍了超高速光电探测器封装结构。
刘家洲
李爱珍
张永刚
关键词:
化合物半导体
INGAAS
单电源低电压InGaP/InGaAs PHEMT低噪声单片放大器
2000年
制备了增强型InGaP/InGaAsPHEMT器件结构、阈值控制以及单电源低电压低噪声单片放大器。获得了阈值电压接近0V的增强型InGaP/InGaAsPHEMT器件,并在此基础上设计制作了可在1.5~3V低电压和单电源下工作的2.5GHz低噪声单片放大器。同时对该电路性能的进一步提高进行了模拟分析。
刘训春
陈俊
王润梅
王惟林
李无瑕
李爱珍
陈建新
陈意桥
陈晓杰
杨全魁
关键词:
单电源
PHEMT
GaN基材料的RF等离子体MBE生长与特性
齐鸣
李爱珍
李伟
赵智彪
张永刚
陈建新
关键词:
GAN基材料
MBE生长
MBE-GaAs/Si材料应变层的调制光谱研究
1993年
本文采用光调制反射光谱(PR),双晶衍射(DCRD),光荧光激发光谱(PL)等技术研究了MBE-GaAs/Si异质结材料GaAs层的应变情况,以及从不同温度快速热退火后GaAs/Si(PR)谱的变化可看出GaAs外延层应变随退火温度增大而增大,GaAs能隙则随之下降,考虑到应力随温度变化因素后这些不同的测试方法所得的结论与(PR)谱结果基本一致。因此用室温光反射调制光谱对于检测室温下GaAs/Si材料的质量,剩余应力等是方便而有力的方法。
胡雨生
胡福义
汪乐
李爱珍
范伟栋
关键词:
GAAS/SI材料
分子束外延
n型GaSb、InGaAsSb的MBE生长和特性研究
被引量:1
1996年
本文报导了非故意掺杂InGaAsSb本底浓度的降低和掺Ten型GaSb和InGaAsSb的MBE生长与特性的研究结果。结果表明,通过生长工艺的优化,GaSb和InGaAsSb的背景空穴浓度可分别降至1.1×10^(16)cm^(-3)和4×10^(16)cm^(-3),室温空穴迁移率分别为940cm2/v.s和260cm~2/v.s。用Te作n型掺杂剂,可获得载流子浓度在10^(16)~10^(18)cm^(-3)的优质GaSb和InGaAsSb外延层,所研制的材料已成功地制备出D_λ~*=4×10^(10)cmHz^(1/2)/W的室温InGaAsSb红外探测器和室温脉冲AlGaAsSb/InGaAsSb双异质结激光器。
郑燕兰
李爱珍
王建新
茹国平
李存才
胡建
关键词:
INGAASSB
锑化物
MBE
快响应光电探测器的瞬态特性测量
被引量:2
1997年
介绍了快响应光电探测器的发展动态,对其瞬态特性的测量原理和方法进行了综述。
张永刚
李爱珍
关键词:
光电探测器
瞬态特性
光通信
赝形In_xGa_(1-x)As/In_(0.52)Al_(0.48)As异质结构中二维电子气的回旋共振光谱研究
1998年
采用回旋共振光谱方法,同时获得了具有较高电子气浓度的赝形In080Ga020As/In053Ga047As/In052Al048AsHEMT结构中最低两个子能带的费密面附近电子有效质量、散射时间和迁移率.观察到该系统中能带非抛物性和波函数穿透所导致的电子回旋有效质量的显著增大效应。
陈张海
胡灿明
陈建新
陈建新
史国良
沈学础
刘普霖
关键词:
铟镓砷
量子级联激光器有源区中的电子子能级
杨全魁
李爱珍
关键词:
量子级联激光器
文献传递
用于光子器件的ZnO薄膜的分子束外延生长(英文)
被引量:4
1999年
近年来,由于蓝绿发光二极管和激光二极管的发展,宽禁带IIIV 族氮化物和ZnSe 基IIVI族半导体材料成为举世瞩目的研究热点之一。取得这些进展的重要原因是材料质量的不断改善以及创新性的掺杂方法的引入。氧化锌(ZnO)是具有特殊性质的宽禁带直接带隙IIVI族半导体材料,具有在半导体材料中最高的激子束缚能(60meV),将是另一种重要的商用光子器件材料。本文将描述高质量氧化锌单晶薄膜的等离子分子束外延生长,重点放在高温ZnO 受激辐射及激子激光的机理,并在最新的实验发现的基础上,讨论了ZnO 基材料作为光子材料的应用前景。
朱自强
李爱珍
关键词:
氧化锌
光子器件
分子束外延生长
半导体
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