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周德红

作品数:6 被引量:4H指数:1
供职机构:南京电子器件研究所更多>>
相关领域:电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 1篇化学工程

主题

  • 3篇晶体管
  • 3篇功率晶体管
  • 3篇
  • 2篇脉冲功率晶体...
  • 2篇硅脉冲功率晶...
  • 1篇导体
  • 1篇电镀
  • 1篇电镀工艺
  • 1篇增益
  • 1篇微波
  • 1篇微波功率管
  • 1篇微波功率晶体...
  • 1篇脉冲
  • 1篇金属半导体
  • 1篇金属半导体场...
  • 1篇禁带
  • 1篇宽禁带
  • 1篇宽禁带半导体
  • 1篇键合
  • 1篇高增益

机构

  • 6篇南京电子器件...

作者

  • 6篇周德红
  • 3篇康小虎
  • 2篇严德圣
  • 2篇傅义珠
  • 2篇王佃利
  • 2篇王因生
  • 2篇梅海
  • 2篇陈刚
  • 1篇蒋幼泉
  • 1篇刘六亭
  • 1篇盛国兴
  • 1篇郑承志
  • 1篇戴学梅
  • 1篇汪玲
  • 1篇丁晓明
  • 1篇柏松
  • 1篇林川
  • 1篇陈正东
  • 1篇李学坤
  • 1篇张树丹

传媒

  • 4篇固体电子学研...
  • 1篇科技风
  • 1篇2005全国...

年份

  • 2篇2014
  • 1篇2006
  • 1篇2003
  • 1篇2001
  • 1篇1994
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
2.2~2.4 GHz 110W硅脉冲功率晶体管
2003年
傅义珠李学坤戴学梅王佃利王因生周德红康小虎梅海盛国兴陈刚
关键词:硅脉冲功率晶体管微波功率晶体管
3.1~3.4GHz长脉宽高增益硅功率晶体管
2001年
傅义珠林川周德红梅海潘菁康小虎
关键词:功率晶体管长脉宽高增益
SiC MESFET器件制造与特性研究
报告了4H—SiC MESFET单栅器件的研制。通过对SiC关键工艺技术进行研究,设计出初步可行的工艺流程,并且制造出单栅宽150um,栅长0.8um n沟道4H—SiC MESFET,其主要直流特性结果为:在V
陈刚汪玲周德红柏松
关键词:金属半导体场效应管微波宽禁带半导体
AZ5214反转胶在电镀工艺中的应用
2014年
介绍了一种基于反转光刻胶的电镀工艺,改善了电镀后器件剖面的形貌,有效的减小了后续淀积隔离介质产生的空洞。通过实验,优化了光刻显影工艺参数,并成功应用与批量生产中,提高了器件的可靠性与生产的成品率。
严德圣周德红王佃利
关键词:电镀
硅微波功率管键合失效机理分析被引量:1
2014年
硅微波功率管在生产过程中随机发生大量的键合失效。分析表明,这种硅功率管管芯的焊盘与有源区的连接处介质层容易在键合过程中因为受到金丝的振动冲击而毁坏,因此键合完成后镀金层与介质层无法完整粘合,从而造成微调金丝弧度时发生键合失效。通过加厚焊盘镀金层,避免了金丝对介质层的冲击,提高了硅功率管的键合质量及成品率。
钱伟严德圣丁晓明周德红刘雪高群蒋幼泉
关键词:键合
600 MHz 150W硅脉冲功率晶体管被引量:3
1994年
600MHz150W硅脉冲功率晶体管王因生,陈正东,张树丹,谭卫东,郑承志,刘六亭,康小虎,周德红,陈统华(南京电子器件研究所,210016)A600MHz150WSiliconBipolarPulsedPowerTransistor¥WangYin...
王因生陈正东张树丹谭卫东郑承志刘六亭康小虎周德红陈统华
关键词:功率晶体管脉冲
共1页<1>
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