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许大庆

作品数：2 被引量：30H指数：2
供职机构：华中科技大学更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 2篇多弧离子镀
  • 2篇离子镀
  • 2篇TIN
  • 1篇氮分压
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇氮化钛涂层
  • 1篇刀具
  • 1篇涂层
  • 1篇钛涂层
  • 1篇相结构

机构

  • 2篇华中科技大学
  • 2篇武汉汽车工业...
  • 1篇东风汽车有限...

作者

  • 2篇孙伟
  • 2篇宫秀敏
  • 2篇许大庆
  • 1篇孙伟
  • 1篇叶卫平
  • 1篇朱小清

传媒

  • 2篇金属热处理

年份

  • 1篇2000
  • 1篇1998
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
TiN多弧离子镀涂层质量与X射线衍射图谱被引量：19
2000年
对TiN多弧离子镀涂层的质量和性能进行了试验与分析。试验结果表明 :涂层的质量和性能与X射线衍射图谱之间存在着对应关系。在X射线衍射图谱中具有强烈TiN( 1 1 1 )择优取向的涂层表面光亮、结合强度高、硬度高、耐磨性好。
宫秀敏叶卫平孙伟许大庆朱小清
多弧离子镀TiN涂层工艺及相结构被引量：14
1998年
探讨了多弧离子镀技术中预轰击时间、氮分压和靶电流等对高速钢ＴｉＮ涂层的影响。结果表明，在不同的工艺条件下，ＴｉＮ涂层的相结构组成基本相同，但相对量不一样。当氮分压降低时或当预轰击时间延长时，涂层的硬度增大，耐磨性能改善。当靶电流减小时，涂层的硬度和耐磨性能降低。
叶卫平宫秀敏孙伟孙伟
关键词：多弧离子镀刀具氮分压氮化钛涂层
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共1页<1>
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