孙伟
- 作品数：9 被引量：128H指数：7
- 供职机构：武汉汽车工业大学更多>>
- 相关领域：金属学及工艺化学工程更多>>
- TiN涂层中的择尤取向及其对涂层性能的影响被引量：19
- 2000年
- 对TiN多弧离子镀层的质量和性能进行了试验与分析。结果表明,涂层择尤取向对其质量和性能有影响,具有强烈TiN(111)择优取向的涂层表面光亮、硬度高、耐磨性好。
- 宫秀敏叶卫平孙伟许大庆朱小清
- 关键词：涂层氮化钛离子镀
- 多弧离子镀TiN涂层结合力的影响因素被引量：39
- 2000年
- 选择W6Mo5Cr4V2、3Cr2W8V和GCr15等材料研究了多弧离子镀TiN涂层与基体的结合力。结果表明 ,基体表面粗糙度越小、硬度越高 ,涂层与基体的结合力越好 ,涂层厚度以 2 .5～ 3 .5 μm为最佳 ,含V量高的基体和具有强烈TiN( 111)择优取向的涂层结合力好。
- 孙伟宫秀敏叶卫平张覃铁朱小清
- 关键词：涂层多弧离子镀结合力镀膜
- 多弧离子镀TiN涂层拉应力的探讨被引量：3
- 2002年
- 多弧离子镀TiN涂层有着广泛的应用 ,但拉应力的存在影响了它的使用性能。本文对影响涂层拉应力的因素及产生原因进行了分析 ,并从基体材料的沉积工艺等方面提出了一些减小拉应力。
- 孙伟宫秀敏叶卫平张覃轶杨守银
- 关键词：多弧离子镀TIN涂层拉应力氮化钛
- TiN多弧离子镀涂层质量与X射线衍射图谱被引量：19
- 2000年
- 对TiN多弧离子镀涂层的质量和性能进行了试验与分析。试验结果表明 :涂层的质量和性能与X射线衍射图谱之间存在着对应关系。在X射线衍射图谱中具有强烈TiN( 1 1 1 )择优取向的涂层表面光亮、结合强度高、硬度高、耐磨性好。
- 宫秀敏叶卫平孙伟许大庆朱小清
- 多弧离子镀TiN涂层工艺及相结构被引量：14
- 1998年
- 探讨了多弧离子镀技术中预轰击时间、氮分压和靶电流等对高速钢ＴｉＮ涂层的影响。结果表明，在不同的工艺条件下，ＴｉＮ涂层的相结构组成基本相同，但相对量不一样。当氮分压降低时或当预轰击时间延长时，涂层的硬度增大，耐磨性能改善。当靶电流减小时，涂层的硬度和耐磨性能降低。
- 叶卫平宫秀敏孙伟孙伟
- 关键词：多弧离子镀刀具氮分压氮化钛涂层
- 快速镍电刷镀工艺与镀层质量被引量：6
- 1999年
- 研究了快速镍电刷镀工艺对镀层质量的影响。刷镀电压是工艺中最重要的参数，镀层的表面组织形貌、表面质量、结合力、硬度与应力分布状态都与电压有密切的关系。另外，镀液温度。
- 孙伟王贵富宫秀敏
- 关键词：电刷镀镀层电镀
- TiN多弧离子镀过渡层的组成及其对涂层结合力的影响被引量：13
- 2000年
- 论述了 Ti N多弧离子镀涂层过渡层的组成及其形成机制和影响因素。实验结果及分析表明 ,Ti N涂层过渡层由混合层及扩散层组成 ,扩散层包括 Ti原子扩散层及 N原子扩散层 ;影响扩散层的主要因素是基体材料的成分和沉积温度 ;具有 N原子扩散层的过渡层将使涂层的结合力明显提高。
- 宫秀敏孙伟叶卫平
- 关键词：TIN涂层过渡层结合力离子镀
- 多弧离子镀沉积温度对TiN涂层性能的影响被引量：32
- 2000年
- 在多弧离子镀设备上沉积了TiN涂层 ,研究了不同沉积温度下TiN涂层的表面硬度及与基体的结合力。实验结果表明 ,在保证基体材料不过热的前提下提高沉积温度 ,有利于提高TiN涂层的性能。
- 孙伟宫秀敏叶卫平张覃轶朱小清
- 关键词：TIN涂层沉积温度结合力多弧离子镀
- 基体材料硬度和化学成分对TiN涂层结合力的影响被引量：13
- 2000年
- 选择 3种材料 :W 6Mo5Cr4V2、3Cr2W8V和GCr1 5钢 ,进行了多弧离子镀TiN涂层 ,并对涂层的结合力进行了研究。试验结果表明 ,基体材料的硬度越高 ,TiN涂层的结合力越好 ;选择含V量高的材料沉积TiN涂层 ,有利于提高涂层结合力。
- 孙伟宫秀敏叶卫平张覃轶朱小清
- 关键词：离子镀化学成分TIN涂层结合力
