您的位置： 专家智库 > >

尹睿

作品数：5 被引量：3H指数：1
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
发文基金：河北省自然科学基金天津市自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇CMP技术
  • 1篇低K介质
  • 1篇电子玻璃
  • 1篇振荡频率
  • 1篇振荡器
  • 1篇石英
  • 1篇石英晶体
  • 1篇石英晶体振荡...
  • 1篇碳化硅
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光液
  • 1篇微晶
  • 1篇肖特基
  • 1篇肖特基二极管
  • 1篇晶体振荡
  • 1篇晶体振荡器
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇化学机械全局...
  • 1篇机械抛光
  • 1篇碱性

机构

  • 5篇河北工业大学

作者

  • 5篇刘玉岭
  • 5篇尹睿
  • 2篇张元
  • 2篇李薇薇
  • 1篇王胜利
  • 1篇袁育杰
  • 1篇周建伟
  • 1篇郭志涛
  • 1篇刘钠
  • 1篇张建新
  • 1篇吴涛

传媒

  • 2篇第十三届全国...
  • 1篇半导体技术
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 2篇2006
  • 1篇2005
  • 2篇2003
共 5 条 记 录，以下是 1-5
全选 清除 导出
排序方式：
石英晶体振荡器
石英晶体振荡器是目前精确度和稳定度最高的振荡器,广泛应用于全球定位系统和移动通信等各种系统中.随着科学技术的发展,对振荡频率的精确度、稳定度也提出了越来越高的要求.本文就石英晶体振荡器的现状和发展前景进行了探讨,同时着重...
张元刘玉岭尹睿
关键词：晶体振荡器恒温石英晶体振荡器振荡频率
文献传递
ULSI中低k介质的化学机械全局平坦化分析研究被引量：1
2006年
针对常见的低k介质材料分析了其化学机械全局平坦化的机理,并进一步探讨了低k介质化学机械抛光中包括压力、磨料、pH值和温度在内的几个因素对于抛光速率和表面状态等方面的影响。
尹睿刘玉岭李薇薇张建新
关键词：化学机械抛光低K介质抛光液
碳化硅气体传感器
本文阐述了碳化硅气体传感顺发展研究的现状和应用领域,并对其前景进行了展望.最后以MISiC肖特基二极管气敏传感器只能进行宏观报警为例,指出碳化硅气体传感器仍需要进一步的完善.
尹睿刘玉岭张元
关键词：碳化硅肖特基二极管
文献传递
IC制备中钨插塞CMP技术的研究被引量：2
2006年
对目前超大规模集成电路钨插塞化学机械全局平面化(CMP)的原理及工艺进行了分析,对钨抛光浆料的组成成分进行了研究,开发了一种能够适合工业生产的钨的碱性抛光浆料,并对钨抛光浆料今后的发展进行了展望。
李薇薇周建伟尹睿刘玉岭
关键词：钨化学机械全局平面化碱性
微晶、石英、光学、电子玻璃纳米磨料CMP技术的研究
刘玉岭王胜利袁育杰刘钠赵卫平尹睿郭志涛吴涛
成功实现了分散度小的粒径可控生长，有效控制了金属杂质含量；解决了纯度及稳定性问题，提高了适用性。制得可用于不同材质抛光的不同粒径范围，具有较小分散度的硅溶胶，为CMP工艺提供了合格的精抛磨料。此成果完成后，用于微电子用抛...
关键词：
关键词：CMP技术
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0