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邢建平
作品数:
9
被引量:15
H指数:3
供职机构:
山东工业大学数理系
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发文基金:
山东省自然科学基金
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相关领域:
电子电信
理学
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合作作者
裘南畹
山东工业大学数理系
张福厚
山东工业大学电力工程学院电子工...
宋珂
山东工业大学电力工程学院电子工...
曾一平
中国科学院半导体研究所
刘文利
山东工业大学数理系
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作者
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邢建平
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宋珂
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张福厚
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光电子.激光
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科技通报
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中国激光
年份
2篇
1998
3篇
1997
1篇
1996
1篇
1995
1篇
1994
1篇
1993
共
9
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悬挂式气敏传感器的热功耗
被引量:3
1998年
通过理论和实验相结合的方法,提出了一个适用于悬挂式气敏传感器的热功耗Ph与工作温度T0和环境温度Tr的关系式,并用理论公式和实验数值相结合的方法给出了自然对流换热系数为7~8W·m2K-1的结果.
邢建平
武长虹
张翔
高建华
裘南畹
关键词:
传感器
气敏器件
温度
悬挂式
分子束外延GaAs/AlGaAs超晶格缓冲层量子阱材料的研究
1997年
采用分子束外延技术(MBE)生长了GaAs/AlGaAs单量子阱和多量子阱材料。采用GaAs/Al-GaAs超晶格缓冲层掩埋衬底缺陷,获得的量子阱结构材料被成功地用于制作量子阱激光器。波长为778nm的激光器,最低阈值电流为30mA,室温下线性光功率大于20mW。
宋珂
张福厚
邢建平
曾一平
关键词:
分子束外延
超晶格
砷化镓
采用有效质量法对Al_yGa_(1-y)As/Al_xGa_(1-x)As单量
被引量:3
1996年
介绍了研制的单量子阱半导体激光器(SQWHL)的基本结构及能带图.为了理论分析的方便,采用有效质量方法进行了理论分析和计算.其中,将超晶格的一些基本观点进行了约化,以期望更方便地应用于单量子阱结构的研究.结果表明,理论值(波长775nm)和实验值相吻合.说明将超晶格基本观点进行了约化后,有效质量方法对单量子阱结构的理论分析和计算是十分有效的方法.
张福厚
宋珂
郝修田
邢建平
关键词:
异质结
半导体激光器
具有超晶格缓冲层的量子阱激光器的研制
被引量:1
1997年
在衬底表面制作超晶格缓冲层可以有效地掩埋体材料的缺陷,使阈值电流大幅度降低,光功率成倍增长。所研制出的量子阱激光器室温脉冲平均线性光功率大于20mW(未镀反射膜),波长为778nm,最低阈值电流为30mA,阈值电流密度为400~600A/cm2,谱线宽度为5nm。
张福厚
宋珂
邢建平
郝修田
曾一平
关键词:
超晶格
半导体激光器
测试电压和湿度对气敏特性的影响
被引量:2
1998年
对影响金属氧化物薄膜气敏元件测量可靠性的因素——测试电压VT和湿度[H2O]进行了实验研究:给出了灵敏度Sn随测试电压VT变化的曲线,得出了存在一个Sn稳定的测试电压区间;给出了Sn随[H2O]变化曲线的形式,得出了Sn随[H2O]变化的相对起伏是大的结果;研究了相对灵敏度Sn′≡Sn(C0)/Sn(Cs),得出了Sn′基本不随湿度变化的结果.
杨立新
邢建平
刘援朝
高建华
李蕾
关键词:
电压
灵敏度
气敏元件
气敏特性
气敏薄膜电导响应的扩散反应和传感理论(Ⅱ)──实验结果与讨论
被引量:6
1995年
本文通过实验结果证实了扩散反应模型,证实了Fick扩散定律可推广用于有表面反应的金属氧化物多孔材料中,支持了以兰缪-享希尔伍德机理和传感理论为基础建立起来的扩散反应电导气敏响应的理论.提出了一种通过气敏电导现象的观测和分析来研究表面化学物理有关问题的方法.还就密闭测试室的过冲驰豫现象进行了分析讨论.
郝丕柱
邢建平
管振林
李建明
刘文利
裘南畹
关键词:
表面化学
扩散
气敏薄膜
分子束外延具有GaAs/AlGaAs超晶格缓冲层的量子阱材料
1997年
采用分子束外延技术(MBE)生长了具有GaAs/AlGaAs超晶格缓冲层的单量子阱和多量子阱材料.采用GaAs/AlGaAs超晶格缓冲层掩埋衬底缺陷,获得的量子阱结构材料被成功地用于制作量子阱激光器.波长为778nm的激光器,最低阈值电流为30mA,室温下线性光功率大于20mW.
宋珂
张福厚
邢建平
曾一平
关键词:
分子束外延
缓冲层
超晶格
半导体激光器
气敏薄膜电导响应的扩散反应和传感理论(Ⅰ)基本理论
被引量:5
1994年
根据一些气敏材料显微结构的数据,提出了电导响应的扩散反应模型,并以此为依据建立了理论和薄膜样品的扩散反应方程;根据两类常用的气敏电导测试设备的不同边值条件,解出了还原气体的浓度在扩散反应过程的时空特征。为了使理论同实验相对照,又提出了多晶多孔结构晶粒联接电导的模型,并以此为根据建立了气敏电导的传感理论,导出了薄膜型样品可供与实验结果对照的电导响应的规律和特征。
管振林
邢建平
郝丕柱
李建明
刘文利
裘南畹
关键词:
半导体
气敏材料
金属氧化物半导体电子亲合势的确定
被引量:1
1993年
电子亲合势是半导体能带结构中的重要参数,对研究光电池、异质结、衬底或电极对样品的影响有重要意义,然而这个参数目前尚无法直接测定。近年来,我们以SiO_2和Al_2O_3为衬底研究了多种不同结构、不同厚度、不同组分的金属氧化物薄膜。在查找SiO_2和Al_2O_3的电子亲合势中,发现它们目前尚无确定的参数。
郝丕柱
邢建平
裘南畹
关键词:
金属氧化物
半导体
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