田丰
- 作品数：12 被引量：6H指数：2
- 供职机构：中国科学院电工研究所更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 化学放大胶在电子束光刻技术中的应用被引量：4
- 2003年
- 化学放大胶(ChemicallyAmplifiedResists,简称CARs)是下一代光刻技术中极具发展潜力的一种光学记录介质。介绍了化学放大胶在电子束光刻技术中图形制作工艺的关键步骤以及目前常用的几种化学放大胶,分析了将化学放大胶用于电子束曝光工艺应注意的问题和它将来的发展趋势。
- 田丰韩立杨忠山
- 关键词：电子束光刻技术抗蚀剂CARS电子束曝光微电子产业
- 高能电子束纳米曝光系统的研制
- 田丰韩立顾文琪
- 文献传递
- 透射电子显微镜改造为电子束曝光系统
- 电子束曝光机是半导体工业中的一个重要设备,为了充分研究加速电压对于电子束曝光的影响,高压透射电子显微镜被改造成电子束曝光系统.改造后的系统将用于研究加速电压和光刻胶曝光特征之间的关系.由于高压透射电子显微镜的设计和曝光系...
- 韩立田丰安秉谦顾文琪
- 关键词：电子束曝光电子显微镜
- 文献传递
- 高能电子束纳米曝光系统的研制
- 2003年
- 田丰韩立顾文琪
- 关键词：微电子产业半导体器件光学光刻技术电子束曝光技术
- 高能电子束纳米曝光系统的研制
- 本文主要介绍了高能电子束纳米曝光系统重点环节的研制方案,在部分研制工作完成的基础上,进行了初步曝光实验,并就其结果进行了理论分析.
- 田丰韩立顾文琪
- 关键词：电子束曝光机电子束光刻
- 文献传递
- 纳米级高压扫描电子束曝光技术
- 2005年
- 通过简单添加一些附件,将一台带有扫描附件的商用透射电子显微镜改造为一台高压扫描电子束曝光机,以研究高压下高分辨率、高深宽比抗蚀剂图形曝光及邻近效应的影响。重点介绍了如何获得一个高分辨率的电子光学系统,并利用此系统初步进行了曝光实验,在120nm厚的PMMA胶上获得了53nm线宽的抗蚀剂图形,表明此装置可用于纳米图形的制作。
- 彭开武田丰
- 关键词：透射电子显微镜
- 高能电子束曝光技术研究
- 2004年
- 介绍了将商用透射电镜JEM-2000EX改造为高能电子束曝光系统的研制工作,在现阶段研制工作的基础上进行了曝光实验。结果表明,利用此高能电子束曝光系统可以制备出纳米线条,并且能够制备出具有高深宽比的微细结构,从而为微小器件的加工提供了新的方法。
- 田丰靳鹏云彭开武韩立顾文琪
- 关键词：电子束曝光高能透射电镜
- 微流体PDMS薄片键合工艺探讨
- 本文简述了PDMS(俗称硅胶)的特性和微流体PDMS薄片的制作工艺,并讨论了气压、流量、轰击时间等因素对PDMS键合工艺的影响,总结出PDMS键合工艺中几个关键的参数.
- 聂棱田丰杨中山张春野闫献勇王珺吴岚军
- 关键词：PDMS生物芯片键合工艺
- 文献传递
- 原子力显微镜针尖清洗方法及装置
- 一种原子力显微镜针尖清洗方法。其特征在于将探针下半部无针尖一端的背面涂敷少量指甲油，固定于清洗装置内。将放有探针的清洗装置于盛有清洗液的器皿中，将器皿放置于超声波洗涤槽中，低频超声10分钟。应用本发明方法的清洗装置，包括...
- 田丰韩立初明璋
- 文献传递
- 电子束直写技术制作GHz频带声表面波器件被引量：2
- 2005年
- 电子束具有刻写微细图形尺寸的能力,容易实现亚微米宽格栅的声表面波器件制造,因此可达到器件的高频化和在设计上更具灵活性。该文介绍了器件图形的数据处理策略,基片的制备和工艺过程。描述了在电子束曝光过程中采取的一些独特方法,生产了性能良好的吉赫兹频带滤波器、谐振器和延迟线等声表面波器件。
- 杨忠山范子坤田丰韩立
- 关键词：半导体工艺
