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王冲

作品数：24 被引量：0H指数：0
供职机构：沈阳芯源微电子设备有限公司更多>>
相关领域：动力工程及工程热物理化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 24篇中文专利

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇动力工程及工...

主题

  • 11篇光刻
  • 10篇半导体
  • 7篇晶片
  • 7篇光刻胶
  • 4篇显影液
  • 4篇胶膜
  • 4篇胶液
  • 4篇工艺过程
  • 4篇光刻工艺
  • 4篇半导体行业
  • 3篇真空吸盘
  • 3篇离心机
  • 3篇晶圆
  • 3篇机械手
  • 3篇半导体工业
  • 2篇药品
  • 2篇药液
  • 2篇液体流量
  • 2篇异常区
  • 2篇异常区域

机构

  • 24篇沈阳芯源微电...

作者

  • 24篇王冲
  • 4篇李晓飞
  • 3篇洪旭东

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 4篇2016
  • 6篇2015
  • 3篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 3篇2010
  • 1篇2009
共 24 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种晶片清洗装置
本发明属于IC及LED行业中晶片清洗技术领域，具体地说是一种晶片清洗装置。包括依次通过传送带连接的发片片盒、预清洗单元、滚轮组清洗机构、烘干系统及收片片盒，带清洗的晶片从发片片盒中通过传送带依次进入预清洗单元、滚轮组清洗...
王冲
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高精持续供胶泵装置
本发明涉及晶片喷涂领域，具体为一种高精持续供胶泵装置，应用于半导体制程中对晶片喷涂的供胶。该装置设有三个活塞缸，每个活塞缸的一端安装活塞，每个活塞缸的另一端分别通过活塞缸出口连接管路与出口管路连通，通过活塞缸进口连接管路...
孙东丰王冲
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一种承片台
本发明涉及半导体领域，具体为一种承片台。在半导体工业中，需要旋转加工的时候所使用的承片台，当工艺要求只允许晶片边缘和承片台接触时，可以使用本发明的承片台，保证晶片中心图形区域和承片台不接触，防止因为承片台问题给加工图形造...
王冲
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一种晶圆动态对中方法
本发明涉及LED及IC行业，具体为一种晶圆搬运过程中，动态测量晶圆中心，并辅助机器人进行中心对准的方法。本发明采用两个激光传感器采集晶圆边缘信号，读取机器人电机编码器信号，采集晶圆移动距离的数据，通过计算机进行数据计算，...
王冲
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一种光刻胶喷头保湿装置及其保湿方法
本发明涉及防止光刻胶凝结阻塞喷头的装置，具体地说是一种光刻胶喷头保湿装置及其保湿方法，装置包括通断回吸阀、光刻胶喷头、喷头保湿盒及通断阀，喷头保湿盒的入口通过润湿液管路与润湿液源相连通，在润湿液管路上设有通断阀，喷头保湿...
王冲洪旭东
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一种胶杯自动清洗的方法
本发明属于半导体行业光刻工艺中的旋转涂胶技术领域，具体地说是一种胶杯自动清洗的方法。所述方法是在涂胶平台上设有胶杯和胶臂，所述胶臂上设有多个涂胶胶嘴，各涂胶胶嘴分别与一路胶管连接，所述胶臂上还设有清洗喷嘴，所述清洗喷嘴通...
李晓飞王冲
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带升降式对中装置的离心机
本发明涉及半导体领域，具体为一种带升降式对中装置的离心机，它是在半导体工业中，需要旋转加工的时候所使用的离心机。该离心机的真空吸盘外侧设置可升降的对中装置，放置晶片时，晶片置于对中装置内侧，对中装置在上位，晶片背面与真空...
王冲
一种非真空吸附晶片夹持机构
本发明涉及半导体领域，具体为一种新型的非真空吸附晶片夹持机构，它是在半导体设备上用于旋转加工晶片时晶片的夹持装置，尤其是需要保护晶片中心图形区域的场合，也可以使用在不能提供真空或者是不方便使用真空吸附的场合。该晶片夹持机...
王冲
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光刻胶与显影液的恒温控制系统
本发明涉及IC及LED行业，具体地说是一种光刻胶与显影液的恒温控制系统。包括恒温水控制装置、双层套管组件及喷嘴，其中双层套管组件设有两个双层管路，每个双层管路的内层管路一端均设有喷嘴，另一端均为药液入口，每个双层管路的外...
王冲
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全自动胶膜涂覆、显影装置
本发明属于IC及LED技术领域，具体地说是一种全自动胶膜涂覆、显影装置。包括机器人、盒站、独立对中单元及晶片处理单元，其中盒站位于独立对中单元的上方，所述机器人位于装置的中心，所述盒站及晶片处理单元安装在机器人的周围，所...
王冲
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