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林大键

作品数：37 被引量：155H指数：8
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：国家重点实验室开放基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信机械工程理学金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 31篇期刊文章
  • 3篇专利
  • 3篇科技成果

领域

  • 17篇电子电信
  • 12篇机械工程
  • 4篇理学
  • 2篇化学工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 17篇光学
  • 13篇光刻
  • 9篇衍射
  • 6篇衍射光学
  • 6篇光学元件
  • 5篇衍射光学元件
  • 5篇相移
  • 5篇相移干涉
  • 5篇光学系统
  • 4篇投影光刻
  • 4篇光学设计
  • 4篇二元光学
  • 4篇表面形貌
  • 4篇I
  • 3篇透镜
  • 3篇微米
  • 3篇光刻机
  • 2篇亚微米
  • 2篇优化设计
  • 2篇深紫外

机构

  • 37篇中国科学院
  • 3篇四川联合大学
  • 2篇四川大学
  • 1篇电子科技大学

作者

  • 37篇林大键
  • 9篇周崇喜
  • 8篇杜春雷
  • 7篇周明宝
  • 6篇郭履容
  • 4篇李展
  • 4篇刘业异
  • 4篇王永茹
  • 4篇冯伯儒
  • 4篇尹燕
  • 4篇周礼书
  • 3篇白临波
  • 3篇赵立新
  • 3篇侯德胜
  • 3篇胡松
  • 2篇魏相惠
  • 2篇陈旭南
  • 2篇孙国良
  • 2篇熊胜明
  • 2篇张锦

传媒

  • 12篇光电工程
  • 7篇光学学报
  • 5篇微细加工技术
  • 2篇光学精密工程
  • 1篇光学技术
  • 1篇中国激光
  • 1篇光子学报
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇光学工程

年份

  • 1篇2002
  • 1篇2001
  • 6篇2000
  • 4篇1999
  • 5篇1998
  • 6篇1997
  • 6篇1996
  • 2篇1995
  • 1篇1993
  • 2篇1991
  • 1篇1990
  • 2篇1989
共 37 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
双光路双波长相移干涉显微法测量衍射光学元件形貌被引量：2
2000年
衍射光学元件 (DOE)表面形貌的测量需要解决因表面结构深度较大和表面不连续给测量带来的困难。本文将双波长测量法的思想推广应用到不连续深结构表面的测量 ,并提出了一种新型数据处理方法 ,有效地克服了这些困难。理论分析和测量结果表明 ,基于这些方法的三维表面形貌测量系统纵向分辨率为 0 .5nm,横向分辨率约为 0 .5μm(NA=0 .4 ) ,在整个纵向测量范围内重复测量精度优于 1.3nm,满足了衍射光学元件表面形貌测量的需要。
周明宝林大键白临波
关键词：衍射光学元件三维表面形貌干涉显微镜
基于白光的双波长相移干涉的误差分析被引量：10
1999年
概略介绍了基于白光的双波长相移干涉表面形貌测量系统的原理，具体分析了影响测量精度的各种误差因素，给出了相应的误差计算公式和计算结果，并用模拟测量结果和实际测量结果进行了验证和比较。
周明宝林大键郭履容郭永康
关键词：相移干涉表面形貌白光
光刻机的自动调焦装置
本实用新型是一种光刻机的自动调焦装置，属于对已有光刻机自动调焦装置中的调平机构，调焦机构的进一步改进。其特征在于调平机构中，调平板由一压紧装置固定，分别由螺纹副和电机组成的三个支撑装置，活动地支撑着调平板，由压电陶瓷驱动...
吴濯才刘业异谢传钵姚汉民林大键
文献传递
激光直接光刻制作微透镜列阵的方法研究被引量：15
1996年
介绍了利用激光直接光刻技术制作８相位台阶菲涅尔衍射微透镜列阵的工艺方法，并对元件的衍射效率及光刻过程中的制作误差进行了分析，透镜列阵在小形Ｓｈａｃｋ－Ｈａｒｔｍａｎｎ波前传感器中得到了应用。
杜春雷林大键冯伯儒孙国良徐平郭履容
关键词：激光光刻微透镜列阵衍射光学元件
大视场紫外高均匀照明光学系统构成原理和光能分布模拟计算被引量：6
1999年
叙述紫外（ｉ 线）均匀照明光学系统构成原理和光能分布模拟计算设计方法。举例说明用开发的模拟设计软件ＯＰＴＥＮＧ，设计和模拟计算了一个大视场均匀照明光学系统，在照明面积为１００ｍ ｍ ×１００ｍ ｍ 范围内，照明光能分布不均匀性小于±２ ％ 。
林大键周崇喜尹燕
关键词：光学系统均匀照明光刻
微结构表面形貌的测量被引量：38
1999年
总结了现有各种微结构表面形貌测量方法，概述了这些方法的原理、特性及发展现状，并对各种方法的优越性、存在问题以及应用范围进行了比较。
周明宝林大键郭履容郭永康
关键词：微结构衍射光学元件微细加工
模拟退火法及其收敛性被引量：5
1993年
本文介绍了模拟退火法的起源和发展,并着重就可以获得最低能量状态的退火方案进行了讨论,证明了一类随机矩阵的稳定分布都收敛于具有最低能态的分布。
陈小刚林大键孙国良
关键词：退火计算机模拟优化设计
0.7微米i线分步重复投影光刻曝光系统研制被引量：2
1997年
本文介绍0．7μm线分步重复投影光刻曝光系统的技术指标、系统设计、研制中解决的关键单元技术和研制结果。结果表明工作波长365nm，缩少倍率5倍．曝光视场15mm×15mm．光刻工作分辨力0．6μm，并具有双路暗场同轴对准．又能精确分步投影光刻的曝光系统已研制成功。
陈旭南姚汉民林大键刘业异
关键词：微电子技术
离轴照明成像研究
1996年
本文阐述了离轴照明提高曝光分辨率和增加焦深的原理，应用Ｈｏｐｋｉｎｓ理论研究了其成像特性。给出了两种离轴照明方式──四极照明和环形照明下的空间像分布，并和传统照明方式下的空间像分布作比较。计算结果说明，采用离轴照明使得曝光分辨率和焦深得到了很大的提高。
周崇喜林大键冯伯儒范建兴崔铮
关键词：离轴照明分辨率焦深微细加工
高精度1/4波片的设计被引量：1
1989年
本文论述了高精度1/4波片的设计思想、波片厚度公差、角度公差的确定,以及波片的测量和结果。
熊胜明林大键
关键词：波片存贮器
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