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周明宝

作品数:20 被引量:117H指数:5
供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家教育部博士点基金国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:机械工程电子电信理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 20篇中文期刊文章

领域

  • 13篇机械工程
  • 7篇电子电信
  • 4篇理学
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程

主题

  • 7篇光学
  • 7篇光学元件
  • 6篇衍射
  • 6篇衍射光学
  • 5篇衍射光学元件
  • 5篇相移
  • 5篇相移干涉
  • 4篇表面形貌
  • 2篇双波长
  • 2篇微结构
  • 2篇误差分析
  • 2篇抗蚀剂
  • 2篇刻蚀
  • 2篇光刻
  • 2篇光致
  • 2篇光致抗蚀剂
  • 2篇白光
  • 2篇CHF
  • 2篇波长
  • 2篇差分

机构

  • 20篇中国科学院
  • 3篇四川联合大学
  • 3篇四川大学
  • 2篇扬州市广播电...

作者

  • 20篇周明宝
  • 7篇林大键
  • 7篇郭履容
  • 5篇杜春雷
  • 3篇郭永康
  • 2篇白临波
  • 2篇崔铮
  • 2篇徐平
  • 2篇夏立峰
  • 1篇李展
  • 1篇邓启凌
  • 1篇林大健
  • 1篇张晓春
  • 1篇姚汉民
  • 1篇侯德胜
  • 1篇田宏

传媒

  • 8篇光电工程
  • 5篇光学精密工程
  • 3篇光学学报
  • 2篇中国激光
  • 1篇光子学报
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇2001
  • 4篇2000
  • 6篇1999
  • 4篇1998
  • 2篇1997
  • 3篇1996
20 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
用CHF_3/Ar为工作气体刻蚀融石英被引量:2
1999年
报道了用氟利昂CHF3和氩气Ar作工作气体的反应离子刻蚀融石英的技术。研究了气体流速、腔压和射频等离子体功率对刻蚀速度的影响,并分析了刻蚀工艺对样品表面的污染,同时也考察了刻蚀工艺的均匀性和重复性。为了优化刻蚀工艺,采用Rs1/Discover软件工具设计优化实验。实验中射频等离子体功率范围在120~160W,氩气和氟利昂流速分别在15~35sccm(1cm3/minstandardcubiccentimeter/minute)和20~50sccm范围,腔压在13~19Pa范围,相应的刻蚀速度为15~25nm/min。
周明宝崔铮Prewett D P
关键词:石英反应离子刻蚀氟利昂衍射光学元件
双光路双波长相移干涉显微法测量衍射光学元件形貌被引量:2
2000年
衍射光学元件 (DOE)表面形貌的测量需要解决因表面结构深度较大和表面不连续给测量带来的困难。本文将双波长测量法的思想推广应用到不连续深结构表面的测量 ,并提出了一种新型数据处理方法 ,有效地克服了这些困难。理论分析和测量结果表明 ,基于这些方法的三维表面形貌测量系统纵向分辨率为 0 .5nm,横向分辨率约为 0 .5μm(NA=0 .4 ) ,在整个纵向测量范围内重复测量精度优于 1.3nm,满足了衍射光学元件表面形貌测量的需要。
周明宝林大键白临波
关键词:衍射光学元件三维表面形貌干涉显微镜
弹性导轨受力变形分析计算被引量:1
1998年
推导了平行四边形型弹性导轨在外力作用下产生变形的计算公式。从理论上比较并通过具体设计验证了公式的正确性。这些公式对任何尺寸的弹性导轨都是适用的。
周明宝
关键词:仪器弹性导轨受力分析导轨
用白光相移干涉增大表面形貌可测范围的研究被引量:9
2000年
分析研究了白光相移干涉应用于表面形貌测量时表面形貌与干涉图像之间的关系 ,比较了两种不同光谱分布的光束的白光相移干涉特性。依据白光相移干涉中与干涉光强有关的一些特定参量与表面形貌之间的一一对应关系 ,提出了一种不直接测量相位、避开相位测量不确定性的新方法。所提方法扩大了可测深度范围 ,可用于测量面形较陡的连续表面或不连续深结构表面。
周明宝林大键郭履容郭永康
关键词:相移干涉表面形貌白光干涉法
衍射微透镜列阵在Shack-Hartmann波前传感器中的应用被引量:2
1996年
菲涅耳衍射微透镜列阵是目前广泛应用的衍射光学元件之一,它是基于衍射原理,由计算机设计,并通过微细加工技术制作成的.本文介绍了8相位台阶菲涅耳衍射微透镜列阵的制作方法,并描述了一个用16×16微透镜列阵形成的小型 Shack-Hartmann 波前传感实验系统,用该系统可对入射波前进行测量和重建.
杜春雷林大健周明宝郭履容郭永康
关键词:微透镜列阵衍射光学元件波前传感器
深刻蚀连续浮雕微光学元件的衍射分析被引量:5
1996年
讨论了深蚀刻连续浮雕位相微光学元件的衍射特性.给出了槽形与衍射效率关系的初步研究结果.对实际制作具有指导意义.
徐平唐继跃郭履容郭永康杨家发杜春雷李展周明宝
关键词:深刻蚀衍射光学微光学元件
迈向21世纪的光刻技术被引量:10
1999年
介绍了深紫外光刻技术、电子束光刻技术、X射线光刻技术以及与这些技术相关的一些单元技术的最新进展,概要介绍了这些技术最热门的研究课题,阐述了这些技术的发展前景。
姚汉民周明宝田宏
关键词:电子束光刻X射线光刻
用光致抗蚀剂作牺性层材料制作可动微机械被引量:3
1998年
报道了用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械结构的一种新技术。用这种技术制作可动微机械,动件和固定件同时制作。同现有的牺牲层材料相比,光致抗蚀剂作牺牲层材料具有一些优越性。首先,光致抗蚀剂能直接涂敷,能直接光刻成形。此外,用光致抗蚀剂作牺牲层材料不影响结构的厚度和材料的选择。工艺优化后,结构洁净度、固定件与基片的结合强度及牺牲层去除速度都得到了改善。
周明宝崔铮
关键词:光致抗蚀剂牺牲层微机械
基于白光的双波长相移干涉的误差分析被引量:10
1999年
概略介绍了基于白光的双波长相移干涉表面形貌测量系统的原理,具体分析了影响测量精度的各种误差因素,给出了相应的误差计算公式和计算结果,并用模拟测量结果和实际测量结果进行了验证和比较。
周明宝林大键郭履容郭永康
关键词:相移干涉表面形貌白光
微结构表面形貌的测量被引量:38
1999年
总结了现有各种微结构表面形貌测量方法,概述了这些方法的原理、特性及发展现状,并对各种方法的优越性、存在问题以及应用范围进行了比较。
周明宝林大键郭履容郭永康
关键词:微结构衍射光学元件微细加工
共2页<12>
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