杜伟
- 作品数：4 被引量：7H指数：2
- 供职机构：苏州大学物理科学与技术学院（能源学院）物理学系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省高校省级重点实验室开放课题国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信更多>>
- 栅网与偏压对CHF_3电子回旋共振放电等离子体特性的影响被引量：3
- 2003年
- 研究了电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积系统中栅网的增加和栅网上施加 +6 0V和 - 6 0V偏压对CHF3放电等离子体特性的影响 .发现在低微波功率下栅网与偏压对等离子体中基团分布的影响较大 ,而高微波功率下的影响逐渐减小 .这是由于低微波功率下等离子体中电子温度较低 ,基团的分布同时受栅网鞘电场和电子碰撞分解的共同作用 ;而高微波功率下电子温度较高 ,栅网鞘电场的作用减弱 。
- 叶超杜伟宁兆元程珊华
- 关键词：栅网偏压薄膜沉积技术ECR
- CHF_3/C_6H_6等离子体中的基团分析
- 2003年
- 在一个微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积系统中,测量了CHF3、C6H6及其混合气体放电的质谱和发射光谱图,分析了等离子体中主要基团的分布及其产生的途径,研究了放电功率和流量对主要基团密度的影响,以及它们与氟化非晶碳薄膜沉积速率和键结构之间的关联。结果表明,提高微波功率会增加CHx、CFx等成膜基团的密度,有利于加大沉积速率;而增加CHF3的进气量则会加大F原子基团的密度,这是由于它控制了薄膜的氟化程度。
- 程珊华宁兆元李戈扬叶超杜伟辛煜
- 关键词：氟化非晶碳薄膜发射光谱CHF3C6H6基团
- 流量比对等离子体基团分布和薄膜结构的影响被引量：3
- 2003年
- 使用光强标定的发射光谱(AOES)测量了CHF3/C6H6混合气体的微波电子回旋共振(ECR)放电等离子体中基团的分布状态。实验发现随着CHF3流量的增加,成膜基团CF、CF2、CH等的相对密度增大,而刻蚀基团F的密度也会增加,从而使得a-C:F薄膜的沉积速率降低。同时红外吸收谱(IR)分析表明,在高CHF3流量下沉积的a-C:F薄膜中含有更高的C-F键成分。可见在a-C:F薄膜的制备中CHF3/(CHF3+C6H6)流量比是重要的控制参量。
- 杜伟程珊华宁兆元叶超辛煜黄松
- 关键词：化学气相沉积氟化非晶碳薄膜发射光谱
- 碳氟等离子体中基团分布及其对a-C：F薄膜结构的影响
- 利用静电探针和光强标定的发射光谱/(AOES/)研究了CHF/_3、CHF/_3／C/_6H/_6气体ECR
放电等离子体的特性及氟化非晶碳薄膜/(a-C：F/)的结构与等离子体空间基团分布的关系。...
- 杜伟
- 关键词：氟化非晶碳薄膜发射光谱
- 文献传递
