吴文娟
- 作品数：39 被引量：80H指数：5
- 供职机构：同济大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学机械工程一般工业技术医药卫生更多>>
- 磁控溅射材料沉积速率的定标方法的研究被引量：1
- 2005年
- 介绍了一种利用磁控溅射制备多层膜速率的定标方法。用高精度磁控溅射镀膜设备在同一块基片上先后镀制了两种周期的多层膜,用X射线衍射仪对其进行掠入射衍射测量,测量数据经线性拟合,可同时求得两种多层膜的周期,进而得到镀膜速率。与常用的定标方法相比,该方法不仅可以得到与常用定标方法相同的实验结果,而且提高了工作效率。
- 吴文娟王占山张众王洪昌王风丽秦树基陈玲燕
- 关键词：多层膜磁控溅射定标
- 30.4 nm波长处Mg基多层膜反射镜被引量：4
- 2009年
- 太阳光谱中重要的He-Ⅱ谱线(波长30.4 nm)的观测对于研究太阳活动和日地空间环境具有重要意义,实现空间极紫外太阳观测需要采用多层膜作为反射元件。研究了工作在30.4 nm的Mg基多层膜。以反射率最高为评价函数设计了多层膜,采用直流磁控溅射技术制备了SiC/Mg,B_4C/Mg和C/Mg多层膜,用X射线衍射仪测量了多层膜的结构。研究表明虽然B_4C/Mg多层膜理论反射率最高,但实际制备结果显示,SiC/Mg多层膜的成膜质量最好,反射率最高。同步辐射反射率测量表明:在入射角10°时实测的SiC/Mg多层膜反射率为44.6%。
- 白亮朱京涛徐敬黄秋实吴文娟王晓强王占山陈玲燕
- 关键词：薄膜光学多层膜磁控溅射极紫外反射率
- 软X射线偏振光学元件的设计与制备
- 本文叙述了软X 射线波段反射式多层膜起偏器和检偏器的设计原则和设计方法，优化计算了5.9nm 波长处多层膜光学元件的偏振性能，阐述了其制备的过程，利用小角度衍射法对多层膜的厚度进行了测量，并对同步辐射测量的反射率结果进行...
- 王洪昌王占山吴文娟王凤丽张众秦树基陈玲燕
- 关键词：起偏器设计方法
- 文献传递
- 窄带Mo／Si多层膜反射镜
- 本文设计并制备了窄带Mo／Si多层膜反射镜,工作波长为14 nm。利用高反射级次和减小Mo 层厚度两种方法减小Mo／Si多层膜反射镜光谱宽度。对Mo层厚度分别为2 nm和3 nm的Mo／Si多层膜, 设计了反射级次分别从...
- 吴文娟朱京涛王风丽张众王洪昌张淑敏王占山陈玲燕周洪军霍同林
- 关键词：窄带EUV反射率
- 文献传递
- Co/Mo_2C多层膜热稳定性及界面特性研究
- 2015年
- 为研究多层膜反射镜的热稳定性,设计制备了工作在778eV处的Co/Mo2C多层膜,研究了多层膜在退火实验中的热稳定性及界面结构的变化。通过X射线反射测试表征及拟合退火前后多层膜的结构信息,并用X射线衍射表征多层膜退火过程中膜层晶相结构的变化。结果表明,多层膜的界面质量较好,未退火样品处于无定形态。在退火过程中,周期厚度变化小,多层膜的热稳定性优异。随着退火温度的升高,在Mo2C-on-Co界面处,Co从Co-C混合区域中析出生成Co3Mo晶粒,界面扩散程度加大,从而Co-on-Mo2C界面的热稳定性要优于Mo2C-on-Co界面。
- 冯志祥李浩川朱京涛吴文娟
- 关键词：多层膜热稳定性
- 13.9nm马赫贞德干涉仪用软X射线分束镜研究被引量：3
- 2006年
- 介绍了13.9 nm马赫贞德干涉仪用软X射线分束镜的设计、制备与性能检测。基于分束镜反射率和透过率乘积最大的评价标准,设计了13.9 nm软X射线激光干涉实验用多层膜分束镜。采用磁控溅射方法在有效面积为10 mm×10 mm、厚度为100 nm的Si3N4基底上镀制了Mo/Si多层膜,制成了多层膜分束镜。利用X射线掠入射衍射的方法测量了Mo/Si多层膜的周期。用扩束He-Ne激光束进行的投影成像方法定性分析了分束镜的面形精度,利用光学轮廓仪完成了分束镜面形精确测量。利用北京同步辐射装置测量了分束镜反射率和透射率,在13.9 nm处,分束镜反射率和透过率乘积达4%。使用多层膜分束镜构建了软X射线马赫贞德干涉仪,并应用于13.9 nm软X射线激光干涉实验中,获得了清晰的含有C8H8等离子体电子密度信息的动态干涉条纹。
- 张众王占山王洪昌王风丽吴文娟张树敏秦树基陈玲燕
- 关键词：软X射线MO/SI多层膜
- 极紫外与软X射线偏振光学元件研究
- 王占山王洪昌王风丽陈玲燕秦树基顾忠祥张众马彬吴文娟唐伟星
- 极紫外与软X射线偏振元件是同步辐射上应用的重要光学元件。近期可能应用于北京同步辐射软X射线光束线，主要用于偏振测量，这有可能产生一些效益。上海正在建设上海光源，有可能也建设极紫外与软X射线偏振测量装置，这个项目的积累也为...
- 关键词：
- 关键词：极紫外软X射线
- 共溅射制备W_xSi_(1-x)/Si多层膜应力的实验研究
- 2015年
- 采用直流磁控溅射技术制备了周期厚度为27.5nm的W/Si多层膜,使用实时应力测量装置对其应力特性进行了研究。为降低膜层应力,采用W、Si共溅射技术制备WxSi1-x膜层替换W膜层,制备出WxSi1-x/Si多层膜,与W/Si多层膜的应力特性进行了比较研究。结果表明,W/Si多层膜为较大的压应力,测量值为-476.86 MPa,WxSi1-x/Si周期多层膜为较小的压应力,测量值为-102.84MPa。因此采用共溅射制备WxSi1-x代替W可以显著改善多层膜的应力特性。
- 冀斌张一志朱京涛吴文娟
- 关键词：应力多层膜磁控溅射X射线
- 最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响被引量：3
- 2006年
- 选用能制备小周期的钨/硅(W/S i)作为膜层材料对,着重研究最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响。基于矩阵法计算多层膜反射率和单纯形数值优化方法,设计了入射光子能量为8.0keV,掠入射角的宽度分别为0.85°~1.10°,1.40°~1.70°的X射线超反射镜。结合实际实验制备技术,考虑了W/S i两种膜层材料的最小成膜厚度,确定了膜堆中最小膜层厚度为0.5nm^1.0nm。通过改变最小膜层厚度的值,优化设计了上述条件下的非周期多层膜并对其光学性能进行比较。结果表明:同一个工作波长下,随着多层膜工作角度(掠入射)的增加,膜堆中膜层的厚度减小,最小膜层厚度对其光学性能的影响增加,其光学性能变差。
- 王风丽张众朱京涛王洪昌吴文娟王占山陈玲燕
- 关键词：光学性能
- 具有共振腔模式的一维光子晶体结构
- 介绍了具有共振腔模式的一维光子晶体光谱特性及电场特性计算的传输矩阵方法;基于该结构光学性质如:电场局域态、禁带,综述了其在光学器件中的应用;并提出了需要对该结构进行改进的几个方面。
- 王利王风丽吴文娟王洪昌林小燕王占山吴永刚陈玲燕
- 关键词：传输矩阵共振腔局域态多通道
- 文献传递
