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文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 3篇电路
  • 2篇集成电路
  • 2篇半导体
  • 1篇电路原理
  • 1篇特种气体
  • 1篇气体
  • 1篇离子
  • 1篇离子源
  • 1篇工艺线
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻工艺
  • 1篇规程
  • 1篇半导体工艺
  • 1篇ARC
  • 1篇BICMOS
  • 1篇纯度

机构

  • 4篇无锡微电子科...

作者

  • 4篇陆锋
  • 1篇肖志强
  • 1篇温万良
  • 1篇周林
  • 1篇郑若成
  • 1篇顾爱军

传媒

  • 2篇微电子技术
  • 2篇中国电子学会...

年份

  • 4篇2002
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
工艺线特种气体系统设计与施工规程被引量:1
2002年
本文介绍了工艺线特种工艺气体系统改造设计方面的一些原则,并详细论述了管路的施工规程。
陆锋顾爱军
关键词:特种气体纯度半导体
NV10-80大束流注入机离子源电路原理分析及维修经验浅谈被引量:1
2002年
本文较为详细地分析了EatonNV10 - 80大束流离子注入机离子源电路工作原理 ,包括ARC电压、灯丝电流、气源压力调节及固体源坩埚温度控制的电路工作原理 ,同时 ,又针对常见离子源故障解决作了剖析。由于EatonNV10 - 80大束流离子注入机国内半导体厂家使用较为广泛 ,其它型号的离子注入机也可借鉴 ,本文有较高的实际指导意义。
陆锋
关键词:离子源电路原理
3.0um BiCMOS数模电路工艺开发
本文介绍了在无锡微电子科研中心二室工艺线上开发的3.0umBiCMOS数模电路工艺所考虑的主要因素,以及该工艺流程所用的器件结构、PCM参数,介绍了开发的各个阶段情况,以及为开发此工艺在工艺模拟方面所做的工作.
肖志强陆锋郑若成
关键词:BICMOS集成电路
文献传递
ARC工艺技术研究
本文介绍了在半导体制造中应用于金属互联工艺的ARC(抗反射层或防反射层)技术.通过对抗反射层基本原理的说明,结合工艺实验,来详细、深刻地理解抗反射技术.最后给出了可以用于0.5um工艺生产的ARC结构及用于衡量ARC性能...
温万良陆锋周林
关键词:光刻工艺半导体工艺集成电路
文献传递
共1页<1>
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