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周林

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：无锡微电子科研中心更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇光刻
  • 2篇ARC
  • 1篇电路
  • 1篇抗反射
  • 1篇集成电路
  • 1篇光刻工艺
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体工艺

机构

  • 2篇无锡微电子科...

作者

  • 2篇温万良
  • 2篇周林
  • 1篇陆锋

传媒

  • 1篇电子与封装
  • 1篇中国电子学会...

年份

  • 2篇2002
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
ARC工艺技术研究
本文介绍了在半导体制造中应用于金属互联工艺的ARC(抗反射层或防反射层)技术.通过对抗反射层基本原理的说明,结合工艺实验,来详细、深刻地理解抗反射技术.最后给出了可以用于0.5um工艺生产的ARC结构及用于衡量ARC性能...
温万良陆锋周林
关键词：光刻工艺半导体工艺集成电路
文献传递
ARC工艺技术研究
2002年
本文介绍了应用于金属互联工艺的 ARC(抗反射层或防反射层)技术。通过对抗反射层基本原理的说明,结合工艺实验,深刻地理解 ARC 技术。最后给出了可以用于0.5 μm 工艺生产的ARC 结构及用于衡量 ARC 性能的参数。
温万良周林
关键词：ARC光刻抗反射
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共1页<1>
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