薛春荣
- 作品数：24 被引量：94H指数：7
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- 相关领域：理学电子电信一般工业技术文化科学更多>>
- 193nm氟化物增透膜的特性被引量：2
- 2011年
- 为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上,将挡板法和预镀层技术相结合,采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜,对增透膜的剩余反射率和光学损耗等光学特性,以及表面粗糙度和应力等特性进行了测量和比较。在分析比较和优化的基础上,设计制备的3层1/4波长规整膜系AlF3/LaF3增透膜在193 nm的剩余反射率低于0.14%,单面镀膜增透膜的透射率为93.85%,增透膜表面均方根粗糙度为0.979 nm,总的损耗约为6%。要得到高性能的193 nm增透膜,应选用超级抛光基底。
- 薛春荣易葵邵建达
- 关键词：基底
- 光纤型光可变衰减器的探索被引量：8
- 2005年
- 通过熔融拉锥工艺制备熔锥光纤,将两熔锥光纤以一定的方式装配在二维精密微调架上,制备光纤型光可变衰减器。利用光信号在光纤锥形区特有的传输和耦合特性,实现了光纤间的耦合,耦合效率决定了光能量的衰减程度,从而决定了光纤型光可变衰减器的性能。用耦合模理论分析了锥形光纤间的传输和耦合性质,并从实验上给出了两锥形光纤间的耦合与两锥形光纤间的距离的关系,为制备光纤型光可变衰减器提供了理论和实验依据。
- 薛春荣汪洁吴文娟
- 关键词：可变光衰减器锥形光纤
- 高聚物与光场相互作用的微观机制
- 2006年
- 分析光场与高聚物相互作用的微观机制,介绍高分子与小分子在光场作用下的极化过程。对在窄束光场作用下,高分子链极化后链上各处极化程度的分布情况进行研究,指出对于高度拉伸的聚合物薄膜,电偶极子模型不适合准确解释高分子与光场相互作用的微观机制。为此,采用符合实际的天线模型分析高分子天线与窄束光场的相互作用,从理论上推导出天线模型高分子链上一小段的极化公式,并用离散变分方法——DVM(d iscrete variationalm ethod)计算一个高分子链的极化分布,验证了文中推导出的分式的合理性。最后,将极化分布看作是电流在天线上的分布,计算了天线的次级辐射在空间中的角分布,得到天线模型对电偶极子模型的修正因子。
- 薛春荣马丽
- 关键词：高聚物光场
- 紫外Sc2O3薄膜的光学和结构性能表征及其激光作用下的损伤机理被引量：2
- 2010年
- 利用电子束蒸发方法,在不同沉积温度（50～350℃）下制备了Sc2O3薄膜。分别用分光光度计,小角掠入射X射线衍射仪和轮廓仪测试了薄膜样品的光谱、微结构和表面粗糙度信息,并用薄膜分析软件Essential Macleod计算了Sc2O3薄膜的折射率和消光系数。结果表明：随着沉积温度升高,Sc2O3薄膜结晶程度增强,晶粒尺寸增大,且较高的沉积温度有利于获得较高的折射率。最后用355 nm,8 ns的三倍频Nd：YAG激光器测试了其激光损伤阈值（LIDT）,最大值为2.6 J/cm2,且阈值与薄膜的消光系数、表面粗糙度、光学损耗均呈现相反的变化趋势。用光学显微镜和扫描电子显微镜表征了该薄膜的破坏形貌,详细分析了薄膜在不同激光能量作用下破坏的发展过程,以及Sc2O3薄膜在355 nm紫外激光作用下LIDT与制备工艺的关系,重点分析了355 nm激光作用下薄膜的破坏机理。
- 刘光辉薛春荣晋云霞张伟丽方明贺洪波范正修
- 关键词：沉积温度光学性能结构性能激光损伤阈值
- 锥形光纤的结构与特性被引量：9
- 2007年
- 通过理论分析和仿真试验,研究了锥形光纤的几何形状对锥形光纤的传输损耗和耦合效率的影响。用几何光学的分析方法,说明了光信号在锥形光纤中的传输损耗远低于同类型的圆柱形光纤;仿真试验研究了光源与光纤的相对位置、锥形光纤的尖端半径、锥形光纤的锥角大小对锥形光纤耦合效率的影响。
- 薛春荣侯海虹
- 关键词：锥形光纤传输损耗
- 真空紫外到深紫外波段基底材料的光学特性被引量：15
- 2009年
- 研究了真空紫外到深紫外波段常用的基底材料，给出了常用基底材料的光学特性和在真空紫外波段的截止波长，测量了这些材料在120～500nm的透过率，给出了通过透过率计算弱吸收基底光学常数的计算方法，并用该方法得到了熔石英、氟化镁晶体、氟化钙晶体、氟化锂晶体在120～500nm的折射率和消光系数，对这些常用基底的使用范围和特点进行了一定的比较和分析，并将所得基底的光学常数与公开发表的文献进行了比较，证明了所得结果的可靠性。
- 薛春荣易葵魏朝阳邵建达范正修
- 关键词：深紫外真空紫外透过率消光系数
- 不同衬底对高聚物薄膜界面微观结构的影响
- 2006年
- 用同一种制备方法在玻璃和金衬底上分别制备有机高聚物薄膜;用原子力扫描显微镜对两种薄膜观测发现,高聚物—金属界面比高聚物—玻璃界面薄膜要平整、均匀的多,玻璃衬底上形成的高聚物界面高分子有明显的取向结构;用棱镜耦合法对两种不同衬底的高聚物薄膜波导进行同一条件下的m线观察,发现金属衬底上有机波导的m线要比玻璃衬底上有机波导的m线清晰。说明了衬底的不同会导致薄膜界面中的微观结构产生差异,这些差异会对波导的光学性能产生影响,解释了不同衬底的薄膜波导为何在光学性能上会出现差异。
- 薛春荣
- 关键词：高聚物衬底微结构
- 改进的包络技术确定氟化物薄膜的光学常数
- 为了进一步研究明确氟化薄膜材料在深紫外/紫外波段（deep ultraviolet DUV/ultraviolet UV）的光学常数,本文研究了深紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,分别在熔石英（JGS1）基底和氟...
- 薛春荣易葵晋云霞邵建达范正修
- 关键词：光学常数包络法迭代算法
- 文献传递
- 一种石墨烯硅基太阳能电池及其制造方法
- 本发明公开了一种石墨烯硅基太阳能电池，包括背电极，背电极上设置单晶硅片，单晶硅片上设置二氧化硅层，所述二氧化硅层是具有通孔的环状结构，所述二氧化硅层的表面和由二氧化硅层通孔暴露的单晶硅片表面设置石墨烯薄膜，所述由二氧化硅...
- 况亚伟刘玉申马玉龙薛春荣徐竞
- 文献传递
- 193nm氟化物高反膜研究被引量：4
- 2010年
- 为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物高反膜,对193 nm氟化物高反膜的设计、制备与性能分析进行了深入探讨。用挡板法和预镀层技术相结合,实现了在现有镀膜机上对193 nm薄膜的膜厚控制。在熔石英基底(JGS1)上,用热舟蒸发制备了不同氟化物材料组合高反膜,对不同氟化物材料组合高反膜的反射率、透射率和光学损耗等光学特性,横截面形貌和表面粗糙度等微结构以及应力等特性进行了讨论和比较。在对不同材料组合高反膜性能分析比较的基础上,对应用于高反膜膜材料组合进行了优化选择,以NdF3/AlF3为材料对,设计制备了193 nm高反膜。193 nm氟化物高反膜的反射率达到96%。
- 薛春荣易葵邵建达范正修
- 关键词：高反膜
