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周庆

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：复旦大学更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇液晶屏
  • 2篇液晶屏幕
  • 2篇平行光线
  • 2篇屏幕
  • 2篇柱面
  • 2篇面形
  • 2篇面形检测
  • 2篇光线
  • 2篇干涉图
  • 1篇带隙
  • 1篇淀积
  • 1篇气相淀积
  • 1篇介质
  • 1篇介质薄膜
  • 1篇化学气相淀积
  • 1篇光学
  • 1篇光学带隙
  • 1篇俄歇电子
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶碳

机构

  • 3篇复旦大学

作者

  • 3篇周庆
  • 2篇徐敏
  • 2篇王军华
  • 1篇王季陶
  • 1篇罗兴华
  • 1篇张伟

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇1989
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
一种柱面面形干涉检测装置
本实用新型属于面形检测技术领域，具体为一种柱面面形干涉检测装置。由4D干涉仪出发的平行光线，经过光学扩束准直单元进行扩束后，到达环形光线转换单元；平行光线在环线光束转换单元中通过内外锥面镜转换为360°环形光线；当360...
周庆王军华孔令豹徐敏
文献传递
PECVD SiC薄膜的AES研究
1989年
本文介绍用俄歇电子能谱对等离子增强化学气相淀积非晶碳化硅薄膜进行组分的定量分析、深度剖析和元素的化学状态分析;不同制备条件下非晶碳化硅薄膜的一些淀积规律和工艺中的问题,并利用SiLVV和C KLL俄歇谱探讨非晶碳化硅的特征和硅、碳的化学状态。
刘德中罗兴华张伟周庆王季陶
关键词：化学气相淀积AES非晶碳光学带隙介质薄膜俄歇电子
一种柱面面形干涉检测装置
本发明属于面形检测技术领域，具体为一种柱面面形干涉检测装置。本发明装置包括4D干涉仪、光学扩束准直单元、环形光线转换单元、数据处理单元等；由4D干涉仪出发的平行光线，经过光学扩束准直单元进行扩束后，到达环形光线转换单元；...
周庆王军华孔令豹徐敏
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