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刘丹瑛

作品数:6 被引量:13H指数:3
供职机构:中南大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:中国博士后科学基金国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
相关领域:一般工业技术理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇理学

主题

  • 5篇溅射
  • 3篇热丝
  • 3篇热丝化学气相...
  • 3篇金刚石薄膜
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 3篇反应溅射
  • 3篇ALN薄膜
  • 3篇磁控
  • 2篇氮化铝
  • 2篇氮化铝薄膜
  • 2篇射频磁控
  • 2篇梯度基
  • 2篇力学性能
  • 2篇纳米
  • 2篇过渡层
  • 2篇反应磁控溅射
  • 2篇磁控溅射
  • 2篇力学性
  • 2篇TIC

机构

  • 6篇中南大学

作者

  • 6篇刘丹瑛
  • 5篇魏秋平
  • 5篇余志明
  • 3篇张益豪
  • 2篇龙芬
  • 2篇张雄伟
  • 2篇孟令聪
  • 1篇李劼
  • 1篇周科朝
  • 1篇张斗
  • 1篇阳泰明
  • 1篇王一佳

传媒

  • 2篇粉末冶金材料...
  • 1篇中国表面工程
  • 1篇Transa...

年份

  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
梯度基体温度法和反应溅射TiC过渡层对钛合金基体沉积金刚石薄膜的影响被引量:4
2012年
以H2和CH4作为反应气体,采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在钛合金(Ti6Al4V)平板基体上制备金刚石薄膜,利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、激光拉曼光谱(Raman)和洛氏硬度仪分析薄膜的表面形貌、结构、成分和附着性能,研究了高温形核-低温生长的梯度降温法对原始钛合金和反应磁控溅射TiC过渡层的钛合金表面沉积金刚石薄膜的影响。结果表明:原始基体区和TiC过渡层区沉积的金刚石薄膜平均尺寸分别为0.77μm和0.75μm,薄膜内应力分别为-5.85GPa和-4.14GPa,TiC层的引入可以有效提高金刚石的形核密度和晶粒尺寸的均匀性,并减少薄膜残余应力;高温形核-低温生长的梯度降温法可以有效提高金刚石的形核密度和质量,并提高原始基体上沉积金刚石薄膜的附着性能。
余志明张益豪魏秋平刘丹瑛孟令聪
关键词:过渡层热丝化学气相沉积
梯度基体温度法和反应溅射TiC过渡层对钛合金基体沉积金刚石薄膜的影响
以H和CH作为反应气体,采用热丝化学气相沉积法(Hot filaments chemical vapor deposition,HFCVD),在钛合金(Ti6A14V)平板基体上制备金刚石薄膜,利用扫描电镜(SEM)、X...
张益豪魏秋平余志明刘丹瑛孟令聪
关键词:金刚石薄膜过渡层热丝化学气相沉积
文献传递
射频磁控溅射制备AlN薄膜及其性能研究
A1N薄膜具有很多优异的物理性质,如高的热导率、高的硬度、高的声表面波传播速度、高电阻率、较好的压电性、宽的能隙值等,因而在电子领域具有非常广泛的应用。由于A1N晶体具有各向异性,不同择优取向的A1N薄膜的力学、电学、光...
刘丹瑛
关键词:ALN薄膜射频反应磁控溅射力学性能
文献传递
基体梯度降温对钛合金表面沉积金刚石薄膜的影响被引量:3
2012年
采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在钛合金(Ti6A14V)表面沉积金刚石薄膜,研究基体温度对金刚石形核的影响,及梯度降温CVD技术(即高温梯度降温形核-低温生长)对所得金刚石薄膜样品的物相组成、表面形貌和附着性能的影响。利用扫描电镜(SEM)、激光拉曼光谱(Raman)和维氏硬度仪分析薄膜的形貌、结构、成分和附着性能。结果表明:基体温度较高时,基体表面钛原子和活性碳原子具有更高的能量,更利于活性碳原子向基体的扩散,促进碳化钛的形成,最终延长金刚石的孵化期;采用高温形核-1氐温生长的梯度降温法可以在550-600℃下沉积质量良好的金刚石薄膜;基体温度在30min内从800℃逐渐降温至550℃后再生长7h,所得金刚石薄膜样品具有较好的附着性能。
余志明张益豪魏秋平龙芬阳泰明刘丹瑛
关键词:热丝化学气相沉积金刚石薄膜TI6AL4V形核
溅射气压对AlN薄膜纳米结构和纳米力学性能的影响(英文)被引量:2
2014年
研究在不同气压下,运用射频磁控溅射法在Si(100)上沉积氮化铝(AlN)薄膜,并使用XRD、SEM、AFM、XPS和纳米压痕等表征手段研究薄膜的性质。XRD结果表明,在低压下有利于沉积c轴取向的薄膜,而在高气压下有利于(100)面的生长。SEM和AFM结果表明,随着气压的升高,沉积速率和表面粗糙度均减小而表面粗糙度则增加。XPS结果表明,降低气压有利于减少薄膜中的氧含量,从而使制备的薄膜成分更接近其化学计量比。通过测试AlN薄膜的纳米力学性能表明,在0.30 Pa下制备的薄膜具有最大的硬度和弹性模量。
魏秋平张雄伟刘丹瑛李劼周科朝张斗余志明
关键词:氮化铝薄膜反应磁控溅射纳米力学性能
氮气含量对射频磁控溅射法制备的AlN薄膜微观结构与力学性能的影响被引量:3
2014年
用Ar气和N2气分别作为溅射气体和反应气体,采用射频反应磁控溅射法,通过调节工作气体(Ar气与N2气的混合气体)中N2的含量(体积分数)φ(N2),在硅(100)衬底上制备一系列六方结构AlN多晶薄膜,利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和纳米压痕仪等对薄膜特性进行测试与分析。结果表明,φ(N2)对AlN薄膜的择优取向、结晶性、沉积速率与力学性能的影响都十分显著,对薄膜的微观结构和表面粗糙度也有一定影响:随φ(N2)增大,薄膜的厚度和沉积速率逐渐减小,结晶性也发生显著变化;较高的φ(N2)有利于AlN薄膜沿(002)晶面择优生长;φ(N2)对AlN薄膜的硬度影响较大,而对弹性模量影响较小。实验制备的AlN薄膜具有良好的纳米力学性能,硬度平均值在12.0~29.3 GPa之间,弹性模量平均值在184.0~209.8 GPa之间。
余志明刘丹瑛魏秋平张雄伟龙芬罗嘉祺王一佳
关键词:氮化铝薄膜反应溅射纳米压痕
共1页<1>
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