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郑明志

作品数：6 被引量：13H指数：2
供职机构：福建师范大学更多>>
发文基金：福建省教育厅资助项目福建省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 6篇理学

主题

  • 5篇光学
  • 4篇光学性
  • 4篇光学性质
  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇电学
  • 2篇电学性质
  • 2篇结构和光学性...
  • 2篇反应磁控溅射
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化铝
  • 1篇氧化铋
  • 1篇太阳能
  • 1篇铜薄膜
  • 1篇铜氧化物
  • 1篇膜厚
  • 1篇基片
  • 1篇基片温度
  • 1篇溅射制备

机构

  • 6篇福建师范大学
  • 3篇三明学院
  • 1篇宁德师范学院

作者

  • 6篇郑明志
  • 4篇林丽梅
  • 4篇赖发春
  • 3篇彭福川
  • 3篇肖荣辉
  • 1篇郑卫峰
  • 1篇林建平
  • 1篇郑冬梅
  • 1篇吕佩伟
  • 1篇瞿燕
  • 1篇吴杨微
  • 1篇郑卫锋

传媒

  • 3篇福建师范大学...
  • 1篇漳州师范学院...
  • 1篇闽江学院学报

年份

  • 2篇2012
  • 1篇2011
  • 3篇2010
共 6 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
铜膜厚度对铜膜结构和光电学性质的影响被引量：4
2010年
采用热蒸发方法在玻璃基片上沉积100 nm以内不同厚度的铜薄膜.利用X射线衍射仪、原子力显微镜和分光光度计分别检测薄膜的结构、表面形貌和光学性质,用Van der Pauw方法测量薄膜的电学性质.结果表明,可以将薄膜按厚度划分为区（0-11.5 nm）的岛状膜、区（11.5-32 nm）的网状膜和区（〉32.0 nm）的连续膜.薄膜的表面粗糙度随膜厚的增加,在、区时增加,区时减小.薄膜电阻在区时无法测量,在区随膜厚的增加急剧下降,而在区时随膜厚增加缓慢减小.薄膜的光学吸收与其表面粗糙度密切相关,其变化规律与表面粗糙度的变化相一致.
肖荣辉郑卫峰郑明志彭福川赖发春
关键词：铜薄膜膜厚光学性质电学性质
氮化铝掺铁薄膜的制备及彩色太阳能选择性吸收薄膜的设计
随着石油、煤和天然气等不可再生资源的消耗,太阳能的开发和应用越来越引起人们的关注,而太阳能的光热应用是一个重要应用方向,高效率的彩色的太阳能选择性吸收薄膜具有光热转换效率高、红外热发射低,以及与现代化建筑外观相匹配等优点...
郑明志
关键词：太阳能氮化铝光学常数
文献传递
反应磁控溅射Cu_2O薄膜的结构和电学性质
2010年
用X射线衍射仪检测薄膜的结构;用分光光度计测量薄膜的透射率和反射率,采用拟合正入射透射谱数据的方法计算薄膜的厚度;用Van der Pauw方法测量薄膜表面电阻和霍尔迁移率,并计算出电阻率和载流子浓度.结果表明,生成单相Cu2O薄膜的氧气流量范围很小,在氧气流量为5-7sccm范围,薄膜主要成分为Cu2O,其中氧氩流量比为6∶25时,生成单相多晶结构的Cu2O薄膜,其表面电阻0.68MΩ/□,电阻率58.29Ω.cm,霍尔迁移率4.73cm2·V-1·s-1,载流子浓度3×1016cm-3.
肖荣辉林丽梅郑明志彭福川郑冬梅
关键词：CU2O反应磁控溅射电学性质
基片温度对氧化铋薄膜光学性质的影响被引量：2
2011年
在玻璃基片上直流磁控溅射沉积氧化铋薄膜,基片温度从室温增加到300℃并保持其它沉积条件一致,研究基片温度对薄膜光学性能的影响.样品的晶体结构、表面形貌和透射光谱分别用X射线衍射仪、原子力显微镜和分光光度计进行测量.结果表明,随着基片温度的增加,样品中Bi2O3的（120）衍射峰强度增强,表面颗粒直径逐渐减小;基片温度为250,300℃样品出现了Bi2O2.75的（006）衍射峰.采用拟合透射光谱数据的方法计算薄膜的折射率、消光系数及厚度,并求出光学带隙.随基片温度的增加,氧化铋薄膜的折射率减小,消光系数在10-2~10-1数量级,光学带隙在3.51~3.04 eV递减.
郑明志吕佩伟林丽梅瞿燕赖发春
关键词：氧化铋基片温度光学性质
氧气流量对反应磁控溅射铜氧化物薄膜结构和光学性质的影响被引量：2
2010年
反应磁控溅射方法在玻璃基片上沉积铜氧化物薄膜,研究氧气流量对薄膜结构和光学性质的影响.用X射线衍射仪检测薄膜的结构,分光光度计测量薄膜的透射和反射光谱,采用拟合正入射透射光谱数据的方法计算薄膜的折射率、消光系数及厚度.结果表明,薄膜沉积过程中,随着氧气流量的增加,铜氧化生成物从Cu2O逐步过渡到Cu4O3,最后为CuO;当氧氩流量比为6:25时,生成单相多晶结构的Cu2O薄膜,薄膜的折射率和消光系数随波长增加而减小,带隙为2.49 eV;不同氧气流量条件下制备的Cu2O,CuO薄膜的折射率和消光系数随氧流量的增加而增加.
肖荣辉林丽梅郑明志彭福川赖发春
关键词：铜氧化物磁控溅射光学性质
磁控溅射制备钛薄膜的结构和光学性质被引量：5
2012年
利用直流磁控溅射技术在石英基片上沉积厚度为35～112nm的钛薄膜.采用X射线衍射仪和原子力显微镜分别对薄膜的微结构和表面形貌进行观测,用分光光度计测量样品的透射和反射光谱.选用德鲁特光学介电模型,通过拟合样品的透射和反射光谱数据的方法求解钛薄膜的折射率、消光系数和厚度.结果表明,随着厚度的增加,(100)面衍射峰强度增强,薄膜的结晶性能提高;膜厚为56nm时,样品的表面为多孔结构,而大于56nm时表面为连续膜的球形颗粒结构;随膜厚的增加,表面颗粒直径逐渐增大,表面粗糙度减小.在400～2 000nm波长范围内,薄膜的透射率随膜厚的增加而减小,反射率升高;折射率在2.5与3.4之间,消光系数在0.7与1.4之间,折射率和消光系数均随膜厚的增加而增加.
吴杨微郑明志林丽梅林建平郑卫锋赖发春
关键词：钛光学性质表面形貌
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