气体电子倍增器(GEM,Gas Electron Multiplier)是近些年发展的一种新的气体探测器,具有计数率和位置分辨率高等优点,在粒子物理和X光成像等领域有着广泛的应用前景,近些年来得到了很快的发展.该探测器发展的关键问题之一就是GEM膜结构的制造,该结构需要利用光刻等多项技术来完成,工艺复杂,研制困难.本文介绍了开发GEM膜结构的研究结果,通过干法和湿法腐蚀的研究和对比,优化出GEM膜结构制造的一种工艺过程,并利用该工艺成功完成了GEM膜结构的制造,为国内GEM气体探测器的研究和应用奠定了基础.
