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杨拥军

作品数：2 被引量：28H指数：1
供职机构：电子部更多>>
相关领域：电子电信机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硅
  • 1篇应力
  • 1篇微电子
  • 1篇微电子机械
  • 1篇微电子机械系...
  • 1篇灵敏度
  • 1篇敏度
  • 1篇加速度
  • 1篇加速度计
  • 1篇高灵敏
  • 1篇高灵敏度
  • 1篇薄膜应力
  • 1篇PECVD
  • 1篇PECVD法

机构

  • 2篇电子部

作者

  • 2篇杨拥军
  • 2篇梁春广
  • 1篇赵永军
  • 1篇李立杰
  • 1篇王民娟

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇第四届全国微...

年份

  • 1篇2000
  • 1篇1999
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
高灵敏度电子隧道加速度计研究
基于隧道效应的高灵敏度加速度计,在MEMS领域中具有其他加速度计不可比拟的特点和优点;本文讲述了电子隧道传感器的工作原理.目前我们作出的隧道传感器的分辨率可达10<'-3>□/(Hz)/2.介绍了隧道效应的加速度计的设计...
李立杰杨拥军梁春广
关键词：加速度计微电子机械系统
文献传递
PECVD SiN_x薄膜应力的研究被引量：28
1999年
等离子增强化学气相淀积 ( Plasma- enhanced Chemical Vaper Deposition,PECVD)Si Nx 薄膜在微电子和微机械领域的应用越来越重要 .它的一个重要的物理参数——机械应力 ,也逐渐被人们所重视 .本文研究了应力跟一些基本的淀积条件如温度、压力、气体流量等之间的关系 .讨论了应力产生的原因以及随工艺条件变化的机理 .通过工艺条件的合理选择 ,做出了 0 .8～ 1 .0 μm厚的无应力的 PECVD Si Nx
赵永军王民娟杨拥军梁春广
关键词：氮化硅PECVD法薄膜应力
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