周海平
- 作品数:8 被引量:118H指数:5
- 供职机构:四川师范大学物理与电子工程学院固体物理研究所更多>>
- 发文基金:四川省教育厅青年基金四川省教育厅重点项目四川省应用基础研究计划项目更多>>
- 相关领域:理学电气工程电子电信更多>>
- 碳掺杂ZnO的电子结构和光学性质被引量:16
- 2008年
- 采用基于密度泛函理论框架下的第一性原理计算研究碳掺杂ZnO的电子结构和光学性质.计算结果表明:C原子替代O原子和C原子替代Zn原子两种掺杂体系的电子结构存在明显差异,这主要是由于C原子的电子分布及对周围原子的影响不同;碳掺杂ZnO光学性质的变化集中在低能量区,而高能量区的光学性质没有明显变化.结合电子结构定性解释了光学性质的变化.
- 段满益徐明周海平陈青云胡志刚董成军
- 关键词:ZNO碳掺杂电子结构光学性质
- 过渡金属与氮共掺杂ZnO电子结构和光学性质的第一性原理研究被引量:64
- 2007年
- 采用基于密度泛函理论框架下的第一性原理平面波超软赝势方法,结合广义梯度近似(GGA)研究了过渡族金属(Mn,Fe,Co,Cu)与N共掺杂ZnO的能带结构、电子态密度分布、差分电荷密度和光学性质.计算表明Mn,Fe,Co与N共掺ZnO的光学性质与Mn,Fe,Co单掺杂相近,但是过渡族金属与N共掺杂有利于获得p型ZnO.
- 段满益徐明周海平沈益斌陈青云丁迎春祝文军
- 关键词:ZNO第一性原理电子结构光学性质
- Si/SiNx/SiO2多层膜的光致发光被引量:3
- 2008年
- 采用射频磁控溅射法,制备了具有强光致可见发光的纳米Si/SiNx/SiO2多层膜,利用傅立叶红外吸收(FTIR)谱,光致发光(PL)谱对其进行了研究。用260nm光激发得到的PL谱中观察到高强度的392nm(3.2eV)和670nm(1.9eV)光致发光峰,分析认为它们分别来自于缺陷态≡Si-到价带顶和从导带底到缺陷态≡Si-的辐射跃迁而产生的光致激发辐射复合发光。PL谱中只有370nm(3.4eV)处发光峰的峰位会受退火温度的影响,结合FTIR谱认为370nm发光与低价氧化物—SiOx(x<2.0)结合体有密不可分的关系。当SiO2层的厚度增大时,发光强度有所增强,800℃退火后出现最强发光,认为具有较大SiO2层厚度的Si/SiNx/SiO2结构多层膜更有利于退火后形成Si—N网络,能够得到更高效的光致发光。用量子限制-发光中心(QCLC)模型解释了可能的发光机制,并建立了发光的能隙态(EGS)模型。
- 陈青云段满益周海平董成军魏屹纪红萱黄劲松陈卫东徐明
- 关键词:红外吸收光致发光
- Si掺杂InN的电子结构和光学性质的第一性原理计算被引量:6
- 2009年
- 采用基于密度泛函理论框架下的第一性原理平面波超软赝势(PWP)方法,结合广义梯度近似(GGA)计算了Si掺杂的InN的电子结构和光学性质,包括能带结构、态密度、介电常数、吸收系数、反射和电子能量损失等.计算表明掺入Si后电子趋于深能级分布,介电函数虚部出现新峰、反射峰的强度有所增强,吸收边和电子能量损失谱有蓝移现象;这些变化与Si掺杂后引起电子密度改变有关.
- 董成军陈青云徐明周海平段满益胡志刚
- 关键词:第一性原理电子结构光学性质
- 过渡金属掺杂ZnO稀磁半导体的发光特性被引量:4
- 2010年
- ZnO是一种宽带隙Ⅱ-Ⅵ族半导体,具有良好的光电耦合特性和稳定性,在光、电、磁功能集成等新型器件方面可获得重要应用。近来的研究表明,过渡金属掺杂的ZnO基半导体有望成为实现高居里温度稀磁半导体的候选材料,是目前研究的热点。总结了近几年人们在Fe、Co、Ni、Cu、Mn等过渡金属掺杂的ZnO基稀磁半导体的发光特性研究结果,讨论了过渡金属掺杂后ZnO中观察到的可见发光机制,分析认为过渡金属掺杂ZnO的可见光发射主要与这些发光过渡金属引入后所产生的缺陷有关,而紫外发光峰的变化则与过渡金属掺入后ZnO晶体质量与禁带宽度的改变相关。
- 徐明胡志刚吴艳南周海平徐禄祥周勋
- 关键词:ZNO稀磁半导体过渡金属掺杂发光
- 碲化镉薄膜太阳能电池及其溅射制备被引量:9
- 2006年
- 简单综述了化合物半导体碲化镉太阳能电池的发展历史、基本结构和核心问题,在此基础上重点总结了用溅射法制备的多晶碲化镉薄膜太阳能电池的优缺点、面临问题、发展现状,展望了它的发展趋势,并讨论了用溅射法制备渐变带隙碲化镉薄膜太阳能电池以提高转化效率的可能性。
- 张榕周海平陈红
- 关键词:碲化镉薄膜太阳能电池溅射法
- β-Si_3N_4电子结构和光学性质的第一性原理研究被引量:18
- 2006年
- 采用基于密度泛函的平面波赝势方法(PWP)和广义梯度近似(GGA),计算了β相氮化硅(β-Si3N4)的电子结构和光学性质,得到的晶格常数、能带结构等均与实验结果较好符合.进一步还研究了β-Si3N4的光吸收系数以及禁带宽度随外压力的变化规律,为β-Si3N4材料在高压条件下的应用提供了理论参考.
- 潘洪哲徐明祝文军周海平
- 关键词:电子结构光学性质