吴仲墀
- 作品数：5 被引量：5H指数：1
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- GaSb/AlSb/GaAs应变层结构的分子束外延生长
- 1990年
- 本文以反射式高能电子衍射(RHEED)和其强度振荡为监测手段,在半绝缘GaAs衬底上成功地生长GaSb/AlSb/GaAs应变层结构,RHEED图样表明,GaSb正常生长时为Sb稳定的C(2×6)结构,AlSb为稳定的(1×3)结构,作者观察并记录GaSb,AlSb生长时的RHEED强度振荡,并利用它成功地生长10个周期的GaSb/AlSb超晶格,透射电子显微镜照片显示界面平整、清晰,采用较厚的AlSb过渡层及适当的生长条件,可在半绝缘GaAs衬底上生长出质量好的GaSb外延层,其X射线双晶衍射半峰宽小于300″,未掺杂的外延层为P型,其室温载流子浓度为2.12×10^(16)cm^(-3),迁移率为664cm^2/V·s。
- 宗祥福邱绍雄杨恒青黄长河陈骏逸胡刚吴仲墀
- 关键词：GASBALSBGAAS应变层
- 电化学合成聚噻吩结构的光谱和电子能谱表征被引量：4
- 1993年
- 借助紫外-可见-近红外光谱,红外光谱,喇曼光谱等实验技术研究了电化学合成导电高分子聚噻吩(Polythiophene)材料在掺杂和非掺杂情况下的结构特征,说明了双极化子是这一类基态非简并的高分子的主要元激发。喇曼光谱和俄歇电子能谱还表征了掺杂离子在样品中的分布,掺杂离子处于高分子链的间隙中,且在深度分布上是均匀的。
- 林贤吴仲墀王辉金曼娜钱彭伟宗祥福
- 关键词：导电高分子聚噻吩双极化子光谱
- Q2D半导体电子和空穴统计被引量：1
- 2001年
- 用半导体统计方法导出准二维半导体自由载流子面密度的数学表达式 ,并给出面密度与体密度之间关系式。采用二维半导体自由载流子面密度表示式和范德堡 -霍尔实验测量在衬底 Ga As上 MBE生长的 Q2 D的样品 Ga Sb和 In As1-x Sbx ( x≈ 0 .2 2 )禁带宽度 Eg,获得满意结果。
- 罗振华吴仲墀
- 关键词：禁带宽度
- MBE生长的InAs_(1-x)Sb_x外延层Eg和x测量
- 2001年
- MBE生长的外延三元化合物材料InAs1 xSbx/AlSb/GaAs等是研制红外光通讯探测器的重要材料 ,准确检测这些半导体的禁带宽度Eg和组份x是个重要课题。该文简要地提出与本研究有关的二维 (2D)体系态密度D2D和自由载流子面密度等物理量的数学表达式并采用变温Vander Pauw Hall实验对上述半导体样品进行测试 ,分别用 2D和 3D体系的理论对实验数据进行分析处理 ,实验结果表明 :2D理论得出的Eg和x比 3D理论处理有明显改善 。
- 罗振华吴仲墀邱绍雄
- 关键词：禁带宽度MBE三元化合物
- 硅单晶杂质补偿度对超高反压大功率晶体管耐压特性的影响
- 1991年
- 一、引言 超高反压大功率晶体管DF104是电视机的重要电子器件。提高其质量和合格率是发展国产电视机的重要课题之一。在严格的器件设计和工艺条件下,采用低补偿度的优质硅单晶材料,能有效地提高这晶体管的击穿电压及其合格率,从而降低其成本。 实验用的衬底硅单晶片是电阻率大体相同(P≈80Ωom)的N-Si。实验时,从同一硅单晶锭切下硅片,用55K低温霍尔法和迭代法抽样检测其杂质补偿度K,再将和抽样检测样品相邻的硅片,经严格抛光清洗之后投片生产晶体管。每次生产条件严格保持相同。对生产出的晶体管,统测其耐压BV_(ceo)和BV_(cbo)及其合格率ξ,η等。合格率ξ和η分别定义为耐压≥某额定耐压BV_(ceo)和BV_(cbo)的成品数对总成品数之比。
- 吴仲墀钱佑华张维宽罗振华
- 关键词：晶体管硅耐压
