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合肥清溢光电有限公司

作品数：83 被引量：1H指数：1
相关机构：深圳清溢光电股份有限公司中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术文化科学金属学及工艺更多>>

合作机构

文献类型

  • 77篇专利
  • 6篇期刊文章

领域

  • 14篇电子电信
  • 14篇自动化与计算...
  • 9篇文化科学
  • 7篇金属学及工艺
  • 4篇机械工程
  • 2篇经济管理
  • 2篇化学工程
  • 2篇轻工技术与工...
  • 1篇电气工程
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇医药卫生

主题

  • 61篇掩膜
  • 61篇掩膜版
  • 17篇光刻
  • 9篇掩模
  • 9篇夹具
  • 8篇掩模版
  • 7篇夹持
  • 7篇光刻机
  • 6篇涂胶
  • 6篇污染
  • 6篇光刻胶
  • 6篇大尺寸
  • 5篇下料
  • 5篇显影
  • 5篇夹紧
  • 4篇组件
  • 4篇线宽
  • 4篇膜盒
  • 4篇机器人
  • 4篇产品品质

机构

  • 83篇合肥清溢光电...
  • 2篇深圳清溢光电...
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇吕磊

传媒

  • 3篇电子工业专用...
  • 3篇光电子技术

年份

  • 17篇2024
  • 21篇2023
  • 27篇2022
  • 15篇2021
  • 3篇2020
共 83 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
掩膜版存放装置
本申请属于掩膜版生产设备技术领域，尤其涉及一种掩膜版存放装置。本申请的掩膜版存放装置，可通过调整两个夹持组件在对应的旋转组件上的旋转角度，实现对不同尺寸的铬版掩膜版的存放。各夹持组件均能在旋转组件上转动，且通过掩膜版的自...
熊启龙
文献传递
一种不同图形密度的图层混排的线宽优化方法
本发明涉及掩膜版制作，具体涉及一种不同图形密度的图层混排的线宽优化方法，将不同图形密度的图层光刻至同一张测试版上，进行相同时间的显影蚀刻处理，计算各图层对应的初始光刻能量补偿值；将不同图形密度的图层分别光刻至同样的测试版...
杜晓威熊启龙
一种掩膜版拆膜装置
本实用新型公开了一种掩膜版拆膜装置，包括上层部件和下层部件，所述上层部件和所述下层部件贴合设置且通过固定件可拆卸固定；所述上层部件包括上层水平部和与所述上层水平部一体设置的折弯部，所述折弯部呈上翘设置且游离端设置为倒角，...
宋恺
一种掩膜版局部图形位置偏差补偿方法
本发明涉及掩膜版，具体涉及一种掩膜版局部图形位置偏差补偿方法，设计测试图形，并对测试图形进行曝光，收集图形位置偏差数据；基于图形位置偏差数据得到反向补偿数据；对反向补偿数据进行处理，形成补偿Map；将补偿Map合并至光刻...
徐智俊熊启龙
清洗保护膜残留胶印的方法及用于清洗残留胶印的装置
本申请属于掩模版生产技术领域，尤其涉及一种清洗保护膜残留胶印的方法及用于清洗残留胶印的装置。本申请的清洗保护膜残留胶印的方法，通过将掩膜版水平固定，可防止掩膜版在清洗时晃动导致掩膜版损伤；再通过提供干冰清洗机，便能通过‑...
熊启龙
文献传递
一种便捷式版材清洁工具
本实用新型公开了一种便捷式版材清洁工具，包括底座、设置在所述底座上的下层电动滑轨组件、设置在所述下层电动滑轨组件上的上层电动滑轨组件、设置在所述上层垫电动滑轨组件上的清洁组件，以设置在底座区域中的支撑组件，版材通过所述支...
徐兵
一种掩膜版的上版装置
本发明公开了一种掩膜版的上版装置，包括一呈倾斜状的支撑主体，支撑主体上设置有下支撑组件、左支撑组件和右支撑组件，下支撑组件、左支撑组件和右支撑组件形成一倾斜支撑面，掩膜板置于倾斜支撑面上且掩膜板中心与倾斜支撑面的中心重合...
张伟明谭超华李胜
一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备
本实用新型公开了一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，包括与待显影蚀刻掩膜版尺寸相适应的显影蚀刻腔，显影蚀刻腔顶部设置有腔口，腔口上设置有腔盖；显影蚀刻腔内设置有若干喷嘴和用于放置待显影蚀刻掩膜版的升降托台，喷嘴后部连接有...
魏晖
一种掩膜版支撑结构及掩膜版清洗支撑组件
本实用新型公开了掩膜版支撑结构及掩膜版清洗支撑组件，掩膜版支撑结构包括安装部和支撑部，支撑部与安装部固接且包括若干相离的支撑齿，支撑齿上向上的齿面为支撑面，支撑面呈倾斜状设置，被支撑的掩膜版边沿搭接在支撑面上，支撑面由掩...
叶小稳
一种用于掩模版制程相邻区域转运装置
本实用新型公开了一种用于掩模版制程相邻区域转运装置，包括转运仓，转运仓包括一呈罩状的转运仓壳体和置于转运仓壳体内的掩膜版放置区，转运仓壳体顶部设置有向转运仓壳体内吹入洁净空气的风淋系统，转运仓壳体的侧面上设置有进版仓门和...
李胜谭超华张伟明
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