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深圳清溢光电股份有限公司

作品数:81 被引量:1H指数:1
相关机构:合肥清溢光电有限公司东海县奥博石英制品有限公司中国建筑材料科学研究总院有限公司更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术文化科学医药卫生更多>>

文献类型

  • 71篇专利
  • 5篇期刊文章
  • 3篇科技成果
  • 2篇标准

领域

  • 14篇电子电信
  • 5篇自动化与计算...
  • 3篇文化科学
  • 2篇机械工程
  • 2篇轻工技术与工...
  • 2篇医药卫生
  • 1篇生物学
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇航空宇航科学...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 32篇掩膜
  • 29篇掩膜版
  • 19篇掩模
  • 19篇光刻
  • 12篇掩模板
  • 9篇贴膜
  • 9篇激光
  • 7篇条纹
  • 7篇夹具
  • 7篇光掩模
  • 6篇掩模版
  • 6篇组件
  • 6篇光刻机
  • 6篇光刻胶
  • 5篇
  • 5篇MASK
  • 4篇压杆
  • 4篇水平臂
  • 4篇像素
  • 4篇夹紧

机构

  • 81篇深圳清溢光电...
  • 2篇合肥清溢光电...
  • 1篇山东省科学院
  • 1篇中国科学院上...
  • 1篇河源市信大石...
  • 1篇东旭集团有限...
  • 1篇杭州虹谱光色...
  • 1篇武汉锐科光纤...
  • 1篇长飞光纤光缆...
  • 1篇杭州永特信息...
  • 1篇内蒙古欧晶科...
  • 1篇深圳市路维光...
  • 1篇浙江浩锐石英...
  • 1篇江苏亨通光导...
  • 1篇工业和信息化...
  • 1篇中天科技精密...
  • 1篇江苏奥蓝工程...
  • 1篇上海传芯半导...
  • 1篇中航复合材料...
  • 1篇华能(泰安)...

传媒

  • 2篇电子工业专用...
  • 2篇光电子技术
  • 1篇现代盐化工

年份

  • 3篇2024
  • 9篇2023
  • 7篇2022
  • 4篇2021
  • 5篇2020
  • 4篇2019
  • 9篇2018
  • 6篇2017
  • 2篇2016
  • 15篇2015
  • 3篇2014
  • 3篇2013
  • 2篇2012
  • 4篇2011
  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2006
81 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种光学照明系统及非接触式测量装置
本实用新型适用于照明领域,尤其涉及一种光学照明系统和非接触式测量装置,所述光学照明系统包括依次设置的光源、第一聚光镜以及第二聚光镜,所述第一聚光镜设置于第二聚光镜的物方二倍焦距处,所述系统还包括设置在所述第二聚光镜的像方...
蔡春迎
文献传递
一种铬蚀刻液及其制备方法
本发明公开了一种铬蚀刻液及其制备方法,所述铬蚀刻液包括:30~60份硝酸铈铵,200~300份高氯酸和4500~6000份去离子水;该铬蚀刻液的制备方法为:将30~60份硝酸铈铵,200~300份高氯酸和4500~600...
鄢红军熊启龙
文献传递
一种半透膜掩模版LCVD修补系统
本发明公开了一种半透膜掩模版LCVD修补系统,使用激光扫描的方式,扫描光斑小于1um,可以均匀扫描沉积出一块可以控制厚度和均匀性的铬层,从而实现半透膜掩模版修补。该修补系统包括:激光器、光栅光阀、滤光组件、振镜以及物镜组...
李跃松张建国罗俊辉
文献传递
激光气相沉积方式修补白缺陷的方法
本发明公开了一种激光气相沉积方式修补白缺陷的方法,包括:在靠近所述白缺陷的一角设置修补起点,在靠近所述白缺陷的所述修补起点的对角设置修补终点,使得在所述白缺陷所在平面上,以所述修补起点沿横向延伸的直线、所述修补起点沿纵向...
张俊李跃松
文献传递
一种半透膜掩模版LCVD修补系统
本实用新型公开了一种半透膜掩模版LCVD修补系统,使用激光扫描的方式,扫描光斑小于1um,可以均匀扫描沉积出一块可以控制厚度和均匀性的铬层,从而实现半透膜掩模版修补。该修补系统包括:激光器、光栅光阀、滤光组件、振镜以及物...
李跃松张建国罗俊辉
文献传递
精密测量技术——二维测量仪
2015年
目前国内LCD、IC封装及高精度PCB等行业快速发展,精度越来越高,线缝越做越小,因为定位、套合不良问题造成的报废也越来越大。由于大型精密测量仪开发存在技术难度大、前期投资多、市场需求量有限、投资见效慢等实际问题,国内测量仪市场面临着"有钱国外买,钱少则不买"的困难境地。有鉴于此,结合自身需要,清溢公司开发了CMM1100二维坐标测量机,望我们的努力能为国内精密测量仪工业的发展做些贡献。
张建国万承华
关键词:干涉仪空气轴承
一种通过加曝图形制作掩模板的方法
本发明公开了一种通过加曝图形制作掩模板的方法,包括以下步骤:(1)设计数据图形,所述数据图形放置于第一图层中,再将需要加曝的数据图形置于另外的图层中;(2)设置曝光数据参数及曝光格式转换;(3)投入掩模材料;(4)开始曝...
李春兰
半灰阶掩模板半曝光区的设计方法及其制造方法
本发明提供一种半灰阶掩模板半曝光区的设计方法及其制造方法,将半灰阶掩模板的半曝光区设计形成曝光数据图,所述曝光数据图具有半曝光设计区,根据具有半透过膜层的掩模材料在所述半曝光区仅一次曝光所需的光透过量,来设计半曝光设计区...
李春兰熊启龙邓振玉洪志华侯宏浩谭景霞戴海哲
机械夹子
本实用新型提供了一种机械夹子,包括手柄工件,所述手柄工件的一端设有带矩形夹槽的夹脚工件以及驱动所述夹脚工件张开或夹紧的弹簧压柄,所述矩形夹槽的开口尺寸与Pellicle膜尺寸相匹配,且所述矩形夹槽的开口端相对设有两夹块,...
荆学军戴海哲熊启龙
文献传递
一种多参考点高精度掩膜版贴片装置
本发明涉及掩膜版刻划技术领域,提出了一种多参考点高精度掩膜版贴片装置,包括机架,设于机架上的第一调整组件、支柱和第一推顶件,设于第一调整组件上的摄像机,设于支柱顶端的第二调整组件,设于第二调整组件上的压板,设于第一推顶件...
张津
共9页<123456789>
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