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株式会社爱发科

作品数：1,793 被引量：0H指数：0
相关机构：丸文株式会社东芝机械株式会社日本爱发科泰克能株式会社更多>>
相关领域：文化科学电子电信金属学及工艺自动化与计算机技术更多>>

合作机构

文献类型

  • 1,792篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 83篇文化科学
  • 66篇电子电信
  • 60篇金属学及工艺
  • 38篇自动化与计算...
  • 35篇电气工程
  • 30篇一般工业技术
  • 19篇化学工程
  • 11篇轻工技术与工...
  • 9篇医药卫生
  • 7篇建筑科学
  • 7篇交通运输工程
  • 6篇机械工程
  • 4篇矿业工程
  • 4篇理学
  • 3篇经济管理
  • 3篇动力工程及工...
  • 3篇环境科学与工...
  • 2篇石油与天然气...
  • 1篇天文地球
  • 1篇冶金工程

主题

  • 463篇基板
  • 325篇成膜
  • 242篇溅射
  • 206篇真空
  • 164篇真空处理
  • 154篇真空处理装置
  • 97篇金属
  • 93篇真空室
  • 90篇电极
  • 88篇制造装置
  • 78篇电池
  • 67篇电源
  • 67篇太阳能电池
  • 67篇气体
  • 67篇膜厚
  • 63篇阴极
  • 60篇掩模
  • 58篇电阻
  • 58篇照射
  • 57篇靶材

机构

  • 1,793篇株式会社爱发...
  • 13篇东芝机械株式...
  • 13篇丸文株式会社
  • 11篇日本爱发科泰...
  • 10篇三菱综合材料...
  • 9篇东京应化工业...
  • 8篇爱发科低温泵...
  • 8篇国立大学法人...
  • 7篇三井化学株式...
  • 7篇国立研究开发...
  • 5篇国际商业机器...
  • 5篇东京毅力科创...
  • 5篇夏普株式会社
  • 4篇新日铁住金化...
  • 4篇独立行政法人...
  • 4篇东陶机器株式...
  • 4篇三洋电机株式...
  • 3篇日本电材化成...
  • 3篇独立行政法人...
  • 3篇索尼株式会社

传媒

  • 1篇表面技术

年份

  • 49篇2024
  • 66篇2023
  • 62篇2022
  • 100篇2021
  • 111篇2020
  • 109篇2019
  • 78篇2018
  • 48篇2017
  • 66篇2016
  • 68篇2015
  • 77篇2014
  • 133篇2013
  • 160篇2012
  • 200篇2011
  • 164篇2010
  • 112篇2009
  • 58篇2008
  • 96篇2007
  • 17篇2006
  • 11篇2005
共 1,793 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
溅射装置和溅射方法
本发明的课题是提供在靶上不留下非侵蚀区域而且在进行反应性溅射的情况下能形成均匀的膜质的膜的溅射装置。本发明的溅射装置(2)的其特征在于：具备在真空室(21)内隔开一定的间隔并列地设置的至少3片的靶(241)和对各靶(24...
小林大士谷典明小松孝清田淳也中村肇新井真
文献传递
炉床单元、蒸发源及成膜装置
本申请提供一种可以相互交换的炉床单元、蒸发源以及成膜装置。本发明的一个方面的炉床单元具备炉床主体、至少1个第一炉床模块以及至少1个第二炉床模块。炉床主体具有各自包括冷却用的第一通路的多个区域。第一炉床模块具有第一容纳部和...
久保纯也今村聪小川庆柳堀文嗣铃木良太郎
可印刷的基底和喷嘴对准系统
根据本发明，一打印设备(10)可包括设计成用来支撑其上的基底的一卡盘(16)，远离所述卡盘(16)的轨道(24，26)，一与所述轨道(24，26)连接并且具有其内设有至少一个打印头(40)的打印头机壳的打印头小车机架(1...
D·阿尔伯塔利R·G·小贝姆R·D·福克斯P·韦斯特
铝合金靶材及其制造方法
本发明的目的在于提供能够形成耐弯曲性以及耐热性优异的铝合金膜的铝合金靶材以及铝合金靶材的制造方法。为了达成上述目的，本发明的一个方式的铝合金靶材在Al纯金属中含有从Zr、Sc、Mo、Y、Nb以及Ti的组中选择的至少一种的...
中村亮太永田智啓赤松泰彦小林大士氏原祐辅中台保夫新田纯一
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蒸镀装置
本发明提供一种蒸镀装置，其能够将基板、蒸镀掩模等调整对象的温度和目标温度的差异减小。基板(W)和蒸镀掩模(M)的至少一方是温度的调整对象，蒸镀装置具备：电阻加热器(22)，其以与调整对象热接触的方式对调整对象的温度进行调...
吉田雄一柳堀文嗣
文献传递
掩膜板及成膜方法
本发明提供一种掩膜板，其在通过磁铁阵列的吸引力将掩膜板紧密贴合在基板的下表面以使基板(Sw)夹隔在接触板(Tp)和掩膜板(MP)之间时，可尽量抑制在图案掩膜部(1)的透孔(11)周边的突起，并可防止已形成的薄膜上发生掩膜...
三上瞬中尾裕利田宫慎太郎朝比奈伸一
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伪基板和使用该伪基板的成膜装置的启动方法、成膜条件的维持或变更方法及停止方法
一种伪基板，为应用于直列式反应性溅射装置的伪基板，其主体由在矩形金属板上形成有相似形状的开口部的矩形板状的框体构成，通过该主体，覆盖托架的与主体的接触部分。由此，即使在溅射装置运行过程中，也不会发生玻璃破裂等不良情况，能...
石野耕司中村肇松田麻也子进藤孝明菊地幸男
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光照射装置
本发明提供一种可以在力求节电的同时避免部件数量增加，而且相对于密封材的图案独立地对密封材进行光照射的光照射装置。紫外线照射装置(1)的载置台(13)具有载置通过光硬化树脂所形成的线状密封材粘合而成的2片基板所形成的粘合基...
门胁徹二大野琢也泽森朗
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基板成膜装置用板材
本外观设计产品为一种新开发的构件板材产品。;其用途为：在液晶显示器或类似显示器生产中，用于置于涂膜装置中。
森胜彦
基板处理装置及支撑销
本发明的基板处理装置为对基板进行处理的装置，具有：处理室，在腔室内对所述基板的表面进行处理；后背室，与所述处理室相邻，在所述后背室中移动所述基板，并且在所述后背室中支撑所述基板；掩模，配置在所述处理室与所述后背室的边界位...
佐藤雄亮清水豪吉田大介汤山明高桥诚
文献传递
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