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13 条 记 录,以下是 1-10
刘金鑫
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:碳化硅 CVD TAC涂层 高温化学 气相沉积法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨丹丹
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:氮化镓 氢化物气相外延 HVPE 载气 X射线双晶衍射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐永宽
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:HVPE GAN 氮化镓 氢化物气相外延 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
程红娟
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:单晶 晶体 HVPE 氮化镓 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
岳洋
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:HVPE ALN X射线衍射 氮化铝 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐所成
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:X射线双晶衍射 氮化镓 厚层 氢化物 气相外延
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于祥潞
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:HVPE 蓝宝石衬底 成核 表面形貌 氮化镓
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张嵩
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:HVPE GAN 氢化物气相外延 氮化镓 GAAS衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李强
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:硫化镉 CDS 单晶 CMP AFM
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李晖
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:化学机械抛光 CMP 表面粗糙度 碳化硅 晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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