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张峰

作品数：2 被引量：3H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
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合作作者

领域

  • 13个电子电信
  • 8个一般工业技术
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  • 3个机械工程
  • 2个自动化与计算...
  • 1个医药卫生

主题

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  • 8个晶体
  • 8个X射线衍射

机构

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  • 1个河北工业大学
  • 1个天津大学
  • 1个中电集团
  • 1个中华人民共和...
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 5个国家自然科学...
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  • 2个国家重点基础...
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  • 1个天津市自然科...
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传媒

  • 12个微纳电子技术
  • 10个固体电子学研...
  • 9个半导体技术
  • 8个天津科技
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  • 4个人工晶体学报
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  • 2个硅酸盐通报
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  • 2个红外技术
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  • 2个微波学报
  • 2个第13届全国...
  • 1个光电子．激光

地区

  • 13个天津市
共 13 条 记 录，以下是 1-10
刘金鑫
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：碳化硅 CVD TAC涂层 高温化学 气相沉积法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨丹丹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：氮化镓 氢化物气相外延 HVPE 载气 X射线双晶衍射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐永宽
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE GAN 氮化镓 氢化物气相外延 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
程红娟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：晶体 HVPE 氮化镓 DAST 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
岳洋
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE ALN X射线衍射 氮化铝 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐所成
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：X射线双晶衍射 氮化镓 厚层 氢化物 气相外延
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于祥潞
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE 蓝宝石衬底 成核 表面形貌 氮化镓
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张嵩
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE GAN 氢化物气相外延 氮化镓 GAAS衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李强
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硫化镉 CDS 单晶 CMP AFM
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李晖
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 表面粗糙度 碳化硅 晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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