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于祥潞

作品数：2 被引量：5H指数：2
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共 11 条 记 录，以下是 1-10
徐永宽
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE GAN 氮化镓 氢化物气相外延 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
程红娟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：单晶 晶体 HVPE 氮化镓 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李强
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硫化镉 CDS 单晶 CMP AFM
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张峰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE ALN X射线衍射 氮化铝 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘金鑫
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：碳化硅 CVD TAC涂层 高温化学 气相沉积法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨巍
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：成核 表面形貌 HVPE 氮化镓 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨丹丹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：氮化镓 氢化物气相外延 HVPE 载气 X射线双晶衍射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
严如岳
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：氮化物 XPS XPS研究 衬底 砷化镓
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
岳洋
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE ALN X射线衍射 氮化铝 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
殷海丰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：电阻率 自掺杂 硅外延材料 HVPE ALN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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