您的位置： 专家智库 > >

曹孜

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
发文基金：国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 7个电子电信
  • 1个经济管理
  • 1个金属学及工艺
  • 1个动力工程及工...
  • 1个一般工业技术
  • 1个理学

主题

  • 7个单晶
  • 7个氧化诱生层错
  • 7个硅单晶
  • 6个直拉硅
  • 6个直拉硅单晶
  • 6个重掺硅
  • 6个重掺杂
  • 5个抛光片
  • 5个无铬
  • 5个SI单晶
  • 5个CR
  • 3个硅片
  • 2个单晶硅
  • 2个电路
  • 2个电压
  • 2个电压测量
  • 1个大直径
  • 1个单晶硅片
  • 1个单晶拉制
  • 1个单晶炉

机构

  • 7个北京有色金属...
  • 1个有色金属研究...

资助

  • 6个国家科技重大...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个天津市自然科...
  • 1个国际科技合作...
  • 1个河北省教育厅...
  • 1个河北省自然科...

传媒

  • 7个半导体技术
  • 3个稀有金属
  • 2个Journa...
  • 1个物理学报
  • 1个光散射学报
  • 1个人工晶体学报
  • 1个中国有色金属...
  • 1个电子工业专用...
  • 1个微电子学
  • 1个新材料产业
  • 1个第十一届全国...
  • 1个中国有色金属...
  • 1个中国有色金属...
  • 1个第十五届全国...
  • 1个第九届中国国...
  • 1个TFC’09...
  • 1个中国有色金属...
  • 1个集成电路配套...
  • 1个2004年中...
  • 1个第十一届全国...

地区

  • 7个北京市
共 7 条 记 录，以下是 1-7
孙燕
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：抛光片 氧化诱生层错 硅片表面 硅片 表面光电压法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
石宇
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：氧化诱生层错 CR SI单晶 硅单晶 抛光片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李惠
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：氧化诱生层错 CR SI单晶 硅单晶 抛光片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘云霞
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：氧化诱生层错 CR SI单晶 硅单晶 抛光片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周旗钢
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅单晶 硅片 300MM硅片 单晶硅 直拉硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
翟富义
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 单晶硅 磨片 位错 损伤层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
边永智
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：尺寸 晶圆 产品尺寸 氧化诱生层错 机械手
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0