您的位置： 专家智库 > >

陈琛

作品数：29 被引量：0H指数：0
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 9个电子电信
  • 2个理学
  • 1个化学工程
  • 1个自动化与计算...

主题

  • 10个沟槽
  • 10个半导体
  • 9个半导体器件
  • 8个功率器件
  • 8个光刻
  • 7个导体
  • 7个导通
  • 7个电阻
  • 7个栅极
  • 6个叠层
  • 6个接触孔
  • 5个导通电阻
  • 5个电极
  • 5个掩蔽层
  • 4个电容
  • 3个导通损耗
  • 3个导通压降
  • 3个地电
  • 3个电流
  • 3个电流密度

机构

  • 10个杭州士兰集成...

资助

  • 1个国家科技重大...

传媒

  • 2个2014`全...
  • 1个半导体技术
  • 1个电子与封装

地区

  • 10个浙江省
共 10 条 记 录，以下是 1-10
杨彦涛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 接触孔 半导体 功率半导体器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄示
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：槽栅 IGBT器件 发射极 沟槽 缓冲层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王珏
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：功率半导体器件 发射区 集电区 导体 半导体器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩健
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：IGBT器件 发射极 槽栅 发射区 反向二极管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王平
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：外延层 功率半导体器件 沟槽 导电类型 掺杂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向璐
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 光刻设备 接触孔 套刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈文伟
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：功率器件 接触孔 淀积 套刻 槽栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵金波
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：外延层 沟槽 功率器件 接触孔 掺杂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陶玉美
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：半导体 光刻胶 沟槽 功率器件 静电
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邵凯
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：尺寸 衬片 光刻设备 沟槽 功率器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0