2024年12月3日
星期二
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
刘琛
作品数:
82
被引量:4
H指数:1
供职机构:
杭州士兰集成电路有限公司
更多>>
相关领域:
电子电信
理学
机械工程
自动化与计算机技术
更多>>
合作作者
季锋
杭州士兰集成电路有限公司
刘慧勇
杭州士兰集成电路有限公司
范伟宏
杭州士兰集成电路有限公司
孙福河
杭州士兰集成电路有限公司
饶晓俊
杭州士兰集成电路有限公司
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
人物
机构
主题
传媒
资助
领域
任意字段
机构
人物
主题
传媒
资助
领域
任意字段
在结果中检索
领域
21个
电子电信
4个
自动化与计算...
4个
理学
3个
机械工程
2个
化学工程
1个
电气工程
1个
一般工业技术
1个
文化科学
主题
15个
介质层
15个
半导体
14个
淀积
14个
刻蚀
14个
光刻
12个
外延层
11个
衬底
10个
硅片
9个
半导体器件
8个
导体
8个
电阻
8个
氧化层
8个
接触孔
7个
电化学腐蚀
7个
短路
7个
膜层
6个
单芯片
6个
氮化硅
6个
电极
5个
划伤
机构
23个
杭州士兰集成...
2个
杭州士兰微电...
资助
2个
国家科技重大...
1个
北京市自然科...
1个
国家自然科学...
传媒
9个
中国集成电路
6个
半导体技术
4个
2014`全...
1个
电子测试
1个
微电子学
1个
微纳电子技术
1个
科学技术创新
地区
23个
浙江省
共
23
条 记 录,以下是 1-10
全选
清除
导出
季锋
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:空腔 牺牲层 MEMS器件 半导体 衬底
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
刘慧勇
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:发射区 外延层 功率半导体器件 IGBT器件 介质层
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
孙福河
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:差分式 MEMS器件 可变电容器 牺牲层 电容器
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
范伟宏
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:硅片 惯性传感器 深槽 传感器结构 布线
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
饶晓俊
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:外延层 磁阻 掺杂 布线 半导体器件
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
孙伟
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:MEMS器件 衬底 空腔 结构层 灵敏度
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
陈雪平
供职机构:杭州士兰微电子股份有限公司
研究主题:磁阻 单芯片 淀积 磁阻传感器 干法刻蚀工艺
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
王平
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:外延层 功率半导体器件 沟槽 导电类型 掺杂
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
杨彦涛
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:沟槽 功率器件 功率半导体器件 半导体 接触孔
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
季峰
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:硅片 光照 空穴 多孔硅 电化学腐蚀
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
全选
清除
导出
共3页
<
1
2
3
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张