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吕艳欣

作品数:2 被引量:0H指数:0
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陈元金
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:氧化硅薄膜 氮化硅薄膜 硅基底 淀积 BIPOLAR
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刘琛
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:MEMS器件 外延层 发射区 介质层 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李小锋
供职机构:杭州士兰集成电路有限公司
研究主题:BIPOLAR 发射区 氮化硅薄膜 双极 场区
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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