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叶然

作品数:31 被引量:0H指数:0
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地区

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孙伟锋
供职机构:东南大学
研究主题:多晶硅栅 栅氧化层 氧化层 金属 绝缘体上硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
时龙兴
供职机构:东南大学
研究主题:多晶硅栅 氧化层 栅氧化层 金属 绝缘体上硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘斯扬
供职机构:东南大学
研究主题:多晶硅栅 栅氧化层 氧化层 金属 绝缘体上硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陆生礼
供职机构:东南大学
研究主题:多晶硅栅 栅氧化层 氧化层 金属 绝缘体上硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛颖
供职机构:东南大学
研究主题:多晶硅栅 场板 金属接触 隔离区 栅氧化层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙陈超
供职机构:东南大学
研究主题:栅氧化层 氧化层 P型 仿真方法 宏模型
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张春伟
供职机构:东南大学
研究主题:栅氧化层 多晶硅栅 氧化层 金属 N型
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李胜
供职机构:东南大学
研究主题:金属 异质结 沟道 电极 功率半导体器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李秀军
供职机构:东南大学
研究主题:氧化层 阳极 高电子迁移率晶体管 厚膜 绝缘埋层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王宁
供职机构:东南大学
研究主题:数据集成 功率芯片 功率模块 异构数据源 数据库
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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