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刘钠

作品数:13 被引量:36H指数:2
供职机构:河北工业大学更多>>
相关领域:电子电信金属学及工艺自动化与计算机技术更多>>

领域

  • 25个电子电信
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主题

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  • 19个机械抛光
  • 18个抛光
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  • 9个多层布线
  • 8个单晶
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  • 8个电极
  • 7个氮化钛

机构

  • 26个河北工业大学
  • 2个天津大学
  • 2个天津理工大学
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资助

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传媒

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地区

  • 25个天津市
  • 1个北京市
26 条 记 录,以下是 1-10
刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张楷亮
供职机构:天津理工大学
研究主题:化学机械抛光 抛光液 存储器 叠层结构 抛光速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
檀柏梅
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 ULSI 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李薇薇
供职机构:河北工业大学信息工程学院
研究主题:CMP ULSI 超大规模集成电路 化学机械抛光 化学机械全局平面化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张建新
供职机构:天津工业大学
研究主题:等离子喷涂 反应等离子喷涂 复合粉 涂层 TIO
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘效岩
供职机构:北京七星华创电子股份有限公司
研究主题:化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何彦刚
供职机构:河北工业大学
研究主题:抛光液 阻挡层 CMP 化学机械抛光 抛光表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛新环
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张西慧
供职机构:河北工业大学化工学院
研究主题:螯合剂 超大规模集成电路 硅溶胶 电化学 正极材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张远祥
供职机构:河北工业大学
研究主题:臭氧 表面活性剂 硅片 硅衬底 微电子工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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