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王文林

作品数:12 被引量:9H指数:2
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金中央级公益性科研院所基本科研业务费专项更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术电气工程化学工程更多>>

领域

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主题

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  • 6个外延片
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  • 6个硅外延片
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机构

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  • 1个西北工业大学
  • 1个中电集团

资助

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传媒

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  • 1个物理通报
  • 1个科学通报

地区

  • 10个天津市
  • 1个山东省
11 条 记 录,以下是 1-10
闫锋
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:Y 磁控溅射 射频磁控反应溅射 压电陶瓷 射频磁控溅射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郇正利
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:压电陶瓷 压电性能 压电陶瓷材料 居里温度 激光陀螺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛兵
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:过渡区 硅外延片 均匀性 硅外延层 硅外延
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高航
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:硅外延片 硅外延 吹扫 P型 变流量
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李明达
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:均匀性 硅外延 硅外延片 硅外延层 过渡区
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈涛
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:硅外延片 均匀性 电阻率 过渡区 势垒电容
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王春明
供职机构:山东大学
研究主题:二氧化锡 铋层状结构 压电陶瓷 电学非线性 压敏材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李杨
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:硅外延片 PIN光电探测器 外延片 吹扫 P型
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王东兴
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:FZ 硅 加热线圈 炉内 电磁场
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李扬
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:VDMOS器件 VDMOS 过渡区 硅外延片 外延层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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