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杨铁三

作品数:3 被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院电工研究所更多>>
相关领域:化学工程更多>>

领域

  • 3个电子电信
  • 3个一般工业技术
  • 2个金属学及工艺
  • 1个化学工程
  • 1个电气工程

主题

  • 4个氮化
  • 4个氮化钛
  • 4个艺品
  • 4个色调
  • 4个手工艺
  • 4个手工艺品
  • 4个气相沉积
  • 4个物理气相沉积
  • 4个界面结合力
  • 3个电弧
  • 3个电流
  • 3个镀膜
  • 3个阴极
  • 3个阴极材料
  • 3个阴极蒸发
  • 3个真空
  • 3个真空沉积
  • 3个真空电弧
  • 3个离子
  • 3个离子镀

机构

  • 4个中国科学院

资助

  • 3个国家自然科学...

传媒

  • 3个真空
  • 3个中国电工技术...
  • 3个中国电工技术...
  • 2个电工电能新技...

地区

  • 4个北京市
4 条 记 录,以下是 1-4
齐克修
供职机构:中国科学院电工研究所
研究主题:氮化钛 变参数 界面结合力 物理气相沉积 色调
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
游本章
供职机构:中国科学院电工研究所
研究主题:离子镀膜 真空电弧 电弧 沉积速率 氮化钛
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄经筒
供职机构:中国科学院电工研究所
研究主题:真空电弧 离子镀膜 电弧 沉积速率 掩模
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴振华
供职机构:中国科学院电工研究所
研究主题:真空电弧 电弧 物理气相沉积 横向磁场 大电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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