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游本章

作品数：9 被引量：6H指数：1
供职机构：中国科学院电工研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇电弧
  • 4篇离子镀
  • 3篇真空
  • 3篇真空电弧
  • 3篇离子镀膜
  • 2篇氮化
  • 2篇氮化钛
  • 2篇艺品
  • 2篇阴极
  • 2篇色调
  • 2篇气相沉积
  • 2篇物理气相沉积
  • 2篇界面结合力
  • 2篇横向磁场
  • 2篇变参数
  • 2篇沉积速率
  • 2篇磁场
  • 1篇电流
  • 1篇电气
  • 1篇电气装置

机构

  • 9篇中国科学院

作者

  • 9篇游本章
  • 8篇黄经筒
  • 7篇吴振华
  • 2篇齐克修
  • 2篇任侠
  • 2篇杨铁三

传媒

  • 1篇电工电能新技...
  • 1篇真空
  • 1篇中国电工技术...

年份

  • 1篇1995
  • 1篇1993
  • 1篇1992
  • 4篇1991
  • 1篇1989
  • 1篇1986
共 9 条 记 录，以下是 1-9
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排序方式：
离子镀膜技术的发展和应用被引量：1
1989年
本文概述了离子镀膜技术的基本原理和特点,评述了几种主要的离子镀膜类型,综述了近几年来国内外离子镀膜技术的发展和应用.
游本章
关键词：离子镀膜表面处理喷镀法
离子镀膜用高压单脉冲引弧装置
本实用新型属于电气装置，它所公开的一种用于引燃离子镀膜机阴阳极之间直流电弧的高压单脉冲引弧装置有两个特点：第一，能产生高压单脉冲，用于引燃离子镀膜机阴阳极之间的直流电弧；第二，整个引弧装置是附加在离子镀膜机主弧电源的输出...
游本章黄经筒
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用于真空电弧离子镀膜的受控电弧蒸发源
吴振华黄经筒游本章
关键词：离子镀镀膜电弧真空沉积离子源阴极蒸发
大电流多弧斑受控真空电弧蒸发源
本发明属于薄膜沉积设备，是真空电弧离子镀膜机的核心部件。采用电磁线圈磁场控制电弧弧斑在阴极表面上的运动轨迹和速度，显著减少了蒸发源发射的金属液滴，提高了镀膜质量。蒸发源在200A以上的大电弧电流和与之相匹配的磁场下工作时...
吴振华黄经筒游本章任侠
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大电流多弧斑受控真空电弧蒸发源
本发明涉及的大电流多弧斑受控真空电弧蒸发源，是真空电弧离子镀膜机的核心部件，由主弧电源、阴极、含电磁线路的磁路、水冷和点弧极组成，特点：主弧电源≥150A，电磁线圈为可调电流的电磁线圈，阴极为圆形阴极或复合阴极，在≥15...
吴振华黄经筒游本章任侠
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碳氮化钛系列镀层离子镀工艺
本发明属于物理气相沉积工艺中碳氮化钛离子镀层工艺。现有的装饰镀层工艺是只解决和改进某种特定的单一色调的工艺。而本发明将表面色调与界面结合力等技术统一，采用变参数分层过渡和多元色调的独特工艺，获得了金色、紫色、褐色、枪色、...
杨铁三黄经筒游本章齐克修吴振华
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碳氮化钛系列镀层离子镀工艺
本发明属于物理气相沉积工艺中碳氮化钛离子镀层工艺。;现有的装饰镀层工艺是只解决和改进某种特定的单一色调的工艺。而本发明将表面色调与界面结合力等技术统一，采用变参数分层过渡和多元色调的独特工艺，获得了金色、紫色、褐色、枪色...
杨铁三黄经筒游本章齐克修吴振华
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用于真空电弧离子镀膜的受控电弧蒸发源
一、前言真空电弧离子镀膜是八十年代发展起来的新技术,因为它的蒸发离化源是靠真空电弧弧斑的局部高温蒸发和离化,离化率和离子能量都比以往的离子镀膜方法高,因而在工件加热温度较低的情况下就能得到附着力强而致密的薄膜,目前在工业...
吴振华黄经筒游本章
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用于真空电弧离子镀膜的受控电弧蒸发源被引量：5
1992年
本文在研究了阴极弧斑运动规律的基础上，发展了多功能受控电弧蒸发源，它可在自由电弧状态下运行，而在２００～２５０Ａ高参数运行时，可使阴极弧斑覆盖几乎整个阴极表面且多轨迹旋转，使阴极烧蚀均匀，提高了镀膜沉积速率，薄膜质量也相应提高。研制的另一种环形阴极旋转电弧蒸发源，可基本消除液滴，使阴极利用率更高。
吴振华黄经筒游本章
关键词：真空电弧电弧离子镀膜
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