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李耀东

作品数:4 被引量:26H指数:2
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库黎明
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 抛光 300MM硅片 平整度 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王继
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光 表面形貌
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周旗钢
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅单晶 硅片 300MM硅片 单晶硅 直拉硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫志瑞
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 硅片清洗 300MM硅片 硅片表面 清洗工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王新
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:大尺寸 CMP 硅片 机械抛光 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
鲁进军
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光 氧浓度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘红艳
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:硅片 HF RCA清洗 硅片清洗 声波
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林霖
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:超大规模集成电路 300MM硅片 硅片 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘斌
供职机构:北京有色金属研究总院
研究主题:氧沉淀 微缺陷 多晶硅 硅片 CZ硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王敬
供职机构:清华大学
研究主题:沟道 半导体结构 场效应晶体管 晶体管 栅结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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