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周伟

作品数：118 被引量：5H指数：2
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胡少坚
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：晶体管 漏极 刻蚀工艺 图像 场效应晶体管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任铮
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：晶体管 跟随器 栅极 MOS晶体管 漏极
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唐逸
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曹永峰
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王勇
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：麦克风 电容式 硅 天线 品质因子
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郭奥
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：漏极 晶体管 源极 阵列结构 存储器单元
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
叶红波
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：图像 芯片 麦克风 集成电路制造 硅片表面
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陈寿面
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：晶体管 光刻 像元 电极 图像
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王全
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：硅衬底 硅纳米线 刻蚀 自顶向下 图形化
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全冯溪
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：电容 金属连线 电极 槽栅 MOS器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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