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王国雄

作品数：36 被引量：67H指数：5
供职机构：浙江大学更多>>
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领域

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机构

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资助

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传媒

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地区

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  • 1个北京市
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  • 1个四川省
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严晓浪
供职机构：浙江大学电气工程学院
研究主题：集成电路 VLSI 低功耗 光学邻近校正 版图
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
史峥
供职机构：浙江大学电气工程学院超大规模集成电路设计研究所
研究主题：光学邻近校正 光刻 集成电路 成品率 版图
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈志锦
供职机构：中国兵器工业第58研究所
研究主题：光学邻近校正 集成电路 光刻模拟 交流伺服系统 光刻仿真
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
付萍
供职机构：东华理工大学信息工程学院信息工程系
研究主题：光学邻近校正 集成电路 OPC 光刻 水资源
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈晔
供职机构：浙江大学
研究主题：分辨率增强技术 光刻 硅表面 中外合作办学 光刻模拟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
葛海通
供职机构：浙江大学
研究主题：等价性验证 VLSI 低功耗 寄存器 等价性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
沈海斌
供职机构：浙江大学
研究主题：低功耗 支持向量机 随机数发生器 可重构 流水线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高根生
供职机构：浙江大学电气工程学院超大规模集成电路设计研究所
研究主题：光刻模拟 光刻仿真 可制造性设计 纳米级 分辨率增强技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马玥
供职机构：浙江大学
研究主题：光刻 集成电路 分辨率增强技术 硅表面 集成电路设计
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王亮
供职机构：浙江大学
研究主题：催化剂 金属 原料价格 催化 沸石
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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