付萍
- 作品数：8 被引量：32H指数：4
- 供职机构：东华理工大学信息工程学院信息工程系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信水利工程电气工程自动化与计算机技术更多>>
- 模拟比较器的应用(三)
- 2001年
- 介绍模拟比较器在超限监测、直流信号的A/D转换、交流信号的A/D转换和传感器参量信号的A/D转换中的使用方法,并结合内含模拟比较器的P87LPC76X系列单片机,介绍相应的硬件电路设计方法和软件设计思路。
- 周航慈付萍
- 关键词：模拟比较器A/D转换交流信号单片机
- 国外水资源开发利用的经验教训被引量：6
- 2001年
- 合理开发和利用水资源是西部大开发成功的关健。通过对美国水资源管理政策的演化及前苏联的“咸海生态灾难”的研究 ,总结其正反二方面的经验教训 ,以进一步提高水资源开发决策的科学性。
- 黄国夫董永杰付萍
- 关键词：水资源环境保护
- 单片机控制交流稳压器被引量：2
- 1999年
- 阐述了以８９Ｃ２０５１ 单片机为核心的交流稳压器的设计原理，介绍了一种高精度的电网电压测量电路。
- 付萍涂水林朱晣
- 关键词：单片机交流稳压器可控硅变压器
- 一种快速光刻模拟中二维成像轮廓提取的新方法被引量：15
- 2002年
- 在一种新颖的快速光刻模拟算法的基础上 ,提出了一种新的基于稀疏空间点光强计算的二维成像轮廓提取算法 .该算法能够根据版图特点合理选择采样线的位置 ,有效地确定轮廓线存在的范围 ,并根据在采样线上光强单调分布的特性来快速地搜寻轮廓点 .实验表明 ,这是一种快速高效的轮廓提取方案 ,能够适应光学邻近校正中巨大的运算量 .
- 陈志锦史峥王国雄付萍严晓浪
- 关键词：光刻光学邻近校正OPC集成电路
- 一种适于快速OPC的精确光刻胶剖面仿真算法被引量：5
- 2002年
- 光刻仿真工具是描述实际工艺的有效工具。利用光刻仿真工具 ,能够准确地描述由掩模制造工艺、光刻胶曝光、显影、蚀刻所引起的光学邻近效应和畸变所导致的关键尺寸的变化。利用了改进的空间图像仿真及可变光强阈值模型来获得准确的硅片图形。改进的空间图像的基本思想是 ,用空间图像与一个高斯滤波器进行卷积 ,从而使图像较原来变得模糊 ,以此来模拟光刻胶的实际扩散效应。描述了一种适用于快速光学邻近校正 ( OPC)
- 王国雄史峥付萍陈志锦严晓浪
- 关键词：光学邻近校正光刻仿真高斯滤波器集成电路
- 一种基于SPLAT的离轴照明成像算法的研究与实现被引量：4
- 2003年
- 如何提高光刻的分辨率已成为超深亚微米集成电路设计和制造的关键技术。文章简要介绍了分辨率提高技术之一的离轴照明的原理及其构造形式,介绍了部分相干的二维透射系统的仿真程序SPLAT的特点,并用SPLAT实现了一种新的照明结构,为实际开发光学邻近校正(OPC,OpticalProximityCorrection)仿真工具增加了新的功能。
- 付萍王国雄史峥陈志锦严晓浪
- 关键词：光刻离轴照明光学邻近校正集成电路SPLAT
- 用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型被引量：1
- 2002年
- 提出了用于光刻仿真的建模流程.用高斯滤波器与空间影像进行卷积,得到改进的空间影像来模拟光刻胶的扩散,然后使用可变阈值光刻胶模型,以实际工艺数据拟合该模型参数,再把改进空间影像的相关信息作为输入,并根据可变阈值光刻胶模型所确定的光强阈值来预测CD(criticaldimension)变化,从而使光刻仿真的结果更精确地附合实际测量数据.由于正确地表征了实际工艺的特性,模拟结果显示,多参数光刻胶模型更适于实际开发的光学邻近校正(opticalproximitycorrection,OPC)仿真工具.
- 王国雄史峥严晓浪陈志锦付萍
- 关键词：光刻仿真光学邻近校正集成电路
- 浅谈西部大开发中水资源的开发利用被引量：4
- 2002年
- 水资源的合理开发利用是西部大开发成功的保证 ,也是解决西部贫困地区经济发展的关键 .针对目前西部水资源开发利用现状及存在问题 。
- 董永杰付萍黄国夫
- 关键词：水资源经济发展可持续发展水资源管理水资源分配西部大开发
