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7 条 记 录,以下是 1-7
柏松
供职机构:中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题:碳化硅 导电类型 刻蚀 外延层 沟道
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈刚
供职机构:中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题:碳化硅 刻蚀 自对准 碳化硅器件 高温退火
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘海琪
供职机构:中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题:刻蚀 干法刻蚀 碳化硅 BCB 亚微米
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王泉慧
供职机构:中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题:刻蚀 干法刻蚀 亚微米 半导体器件 反应气体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王雯
供职机构:中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题:光刻 半导体材料 金属膜 自对准 酸性溶液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陶永洪
供职机构:中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题:碳化硅 SIC H型 4H-SIC 界面态
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈征
供职机构:中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题:金属 氧化层 BCB 磷化铟 微波电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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