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齐克修

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供职机构：中国科学院电工研究所更多>>

合作作者

领域

  • 3个电子电信
  • 3个一般工业技术
  • 2个化学工程
  • 2个金属学及工艺
  • 1个电气工程

主题

  • 4个氮化
  • 4个氮化钛
  • 4个艺品
  • 4个色调
  • 4个手工艺
  • 4个手工艺品
  • 4个气相沉积
  • 4个物理气相沉积
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  • 3个电弧
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  • 3个镀膜
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  • 3个阴极蒸发
  • 3个真空
  • 3个真空沉积
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机构

  • 4个中国科学院

资助

  • 3个国家自然科学...

传媒

  • 3个真空
  • 3个中国电工技术...
  • 3个中国电工技术...
  • 2个电工电能新技...

地区

  • 4个北京市
共 4 条 记 录，以下是 1-4
杨铁三
供职机构：中国科学院电工研究所
研究主题：氮化钛 变参数 界面结合力 物理气相沉积 色调
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
游本章
供职机构：中国科学院电工研究所
研究主题：离子镀膜 真空电弧 电弧 沉积速率 氮化钛
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄经筒
供职机构：中国科学院电工研究所
研究主题：真空电弧 离子镀膜 电弧 沉积速率 掩模
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴振华
供职机构：中国科学院电工研究所
研究主题：真空电弧 电弧 物理气相沉积 横向磁场 大电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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