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钟旻
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供职机构:
上海集成电路研发中心
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合作作者
陈寿面
上海集成电路研发中心
李铭
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黄仁东
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胡正军
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陈寿面
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:晶体管 光刻 像元 电极 图像
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李铭
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:淀积 光刻 刻蚀 衬底 介质层
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黄仁东
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:刻蚀 金属栅 金属 淀积 抛光
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胡正军
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:淀积 清洗方法 干法刻蚀 二氧化硅 介电材料
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