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孙国琪

作品数:3 被引量:2H指数:1
供职机构:昆明理工大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金云南省自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控共溅射
  • 2篇显微硬度
  • 2篇AL
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇电阻率
  • 1篇微观结构
  • 1篇铝合金
  • 1篇铝合金表面
  • 1篇摩擦磨损性能
  • 1篇耐腐蚀
  • 1篇耐腐蚀性
  • 1篇耐腐蚀性能
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇合金
  • 1篇合金表面
  • 1篇腐蚀性
  • 1篇复合膜
  • 1篇表面形貌

机构

  • 3篇昆明理工大学

作者

  • 3篇孙勇
  • 3篇郭中正
  • 3篇段永华
  • 3篇孙国琪
  • 2篇王凯亮

传媒

  • 2篇金属热处理
  • 1篇热加工工艺

年份

  • 3篇2016
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
磁控溅射沉积W-Ti薄膜的结构与性能
2016年
采用复合靶磁控共溅射方法在p型(100)单晶硅衬底上制备了不同Ti含量的W-Ti薄膜,并与纯W和纯Ti薄膜作对比。采用XRD、SEM、AFM、显微硬度计和四探针电阻仪对薄膜的结构、成分及性能进行分析表征。结果表明,W-Ti薄膜呈细晶粒多晶结构,Ti含量较低时,W-Ti薄膜呈体心立方相结构,存在W基W(Ti)固溶体。Ti含量较高时,还出现hcp富Ti相。W-Ti薄膜的显微硬度随Ti含量的增加先增后减,而电阻率则随Ti含量的增加而增大。W-Ti薄膜显微硬度均高于纯Ti薄膜,电阻率则高于纯W而低于纯Ti薄膜。
孙国琪孙勇郭中正段永华
关键词:磁控共溅射显微硬度电阻率
磁控共溅射沉积Al-Al_2O_3复合膜的结构与性能被引量:1
2016年
用直流(DC)和射频(RF)磁控共溅射法在硅衬底上制备Al-Al_2O_3复合膜,用射频磁控溅射Al_2O_3膜作对比。通过XPS、XRD、HRTEM、FESEM和SPM研究了Al-Al_2O_3复合膜和纯Al_2O_3膜的微观结构和表面形貌,用纳米压痕仪和材料表面性能测试仪测试了样品的显微硬度和抗摩擦磨损性能。结果表明,当射频功率PRF恒定时,Al-Al_2O_3复合膜中Al相的含量和晶粒尺寸与直流功率PDC呈正比关系,Al的加入使Al-Al_2O_3复合膜中非晶态的Al_2O_3颗粒细化,相比纯Al_2O_3膜,表面粗糙度明显降低,并对复合膜力学性能产生影响。Al-Al_2O_3复合膜的硬度高于纯Al_2O_3膜,并具有更加优异的抗摩擦磨损性。直流功率PDC=50 W时,Al-Al_2O_3复合膜综合性能最佳,硬度达到14.4 GPa,摩擦因数低至0.15。
王凯亮孙勇郭中正段永华孙国琪
关键词:磁控共溅射表面形貌显微硬度
铝合金表面磁控溅射Al-Al_2O_3复合涂层的结构及耐腐蚀性能被引量:1
2016年
用Al和Al_2O_3双靶磁控共溅射工艺在抛光铝合金衬底上制备了Al-Al_2O_3复合涂层,同时制备纯Al涂层作对比。利用X射线衍射仪和场发射扫描电镜研究了Al-Al_2O_3复合涂层的微观结构和形貌,通过划痕实验和电化学腐蚀实验对复合涂层的膜基结合力和耐腐蚀性能进行了测试。结果表明,Al-Al_2O_3复合涂层呈较强的Al(111)择优取向,Al_2O_3相以非晶形式存在。直流功率PDC恒定时,射频功率PRF增大,复合涂层中Al相晶粒更加细化,涂层的平整度和致密度明显提高。Al-Al_2O_3复合涂层与铝合金衬底的结合力良好,可达到43 N。相比纯Al涂层,Al-Al_2O_3复合涂层具有优异的耐腐蚀性,其中PRF=150 W的复合涂层的耐腐蚀性能最佳,腐蚀电流密度为0.0016 m A/cm^2,该值相比纯Al涂层降低了一个量级。
王凯亮孙勇郭中正段永华孙国琪
关键词:磁控共溅射微观结构耐腐蚀性
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