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陈尔东

作品数：3 被引量：2H指数：1
供职机构：北京航空航天大学物理科学与核能工程学院凝聚态物理与材料物理研究中心更多>>
发文基金：教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 3篇直流磁控
  • 3篇直流磁控溅射
  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇吸收光谱
  • 2篇光谱
  • 2篇XO
  • 1篇微观形貌
  • 1篇溅射制备
  • 1篇光学
  • 1篇光学特性
  • 1篇包络法
  • 1篇迟滞回线
  • 1篇Y
  • 1篇TIN

机构

  • 3篇北京航空航天...

作者

  • 3篇王聪
  • 3篇陈尔东
  • 2篇朱开贵
  • 2篇杨海刚

传媒

  • 1篇真空
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇中国材料科技...

年份

  • 3篇2008
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
直流磁控溅射技术制备TiNxOy薄膜
2008年
利用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了TiNxOy薄膜样品。发现薄膜的颜色、晶体结构、光学性质等都强烈依赖于反应气体的流量。利用光电子能谱（XPS）、X射线衍射（XRD）、UV—Vis分光光度计、扫描电子显微镜（SEM）等测试手段对样品进行表征。结果表明：随着O2流量的逐步增加，薄膜逐渐呈现非晶态，晶粒逐渐变小。薄膜结构从TiN到TiNxOy再向TiO2过渡。透射光谱显示从TiN的不透明逐渐增加到透明度为80％，且吸收阈发生蓝移。
陈尔东王聪杨海刚朱开贵
关键词：直流磁控溅射吸收光谱微观形貌
TiN_xO_y薄膜的制备及其光学特性被引量：1
2008年
用直流磁控溅射技术在玻璃基底上沉积TiNxOy薄膜。应用XRD与SEM表征了TiNxOy薄膜的晶化程度及表面形貌。在室温下300～900nm的波长范围内测量了薄膜的透射光谱，并根据“包络法”理论，计算了薄膜的光学常数。结果表明，随着入射波长的增加，薄膜的折射率n先减小后再增加；消光系数k单调增加；而吸收系数变化平缓。由“包络法”和Tauc关系确定TiNxOy薄膜的光学能隙约为2．213eV。
陈尔东王聪
关键词：直流磁控溅射光学特性包络法
直流磁控溅射制备TiN_xO_y薄膜的性能研究被引量：2
2008年
利用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了TiNxOy薄膜样品,研究了溅射过程中电压与N2流量之间的迟滞效应,通过X射线衍射(XRD)、UV-Vis分光光度计、四探针电阻仪等测试手段表征了样品的物相、光吸收谱、电阻等性能。结果表明:随着N2含量的提高和薄膜厚度的增加,XRD显示薄膜样品出现明显的衍射峰,吸收光谱向可见光方向展宽至500 nm,电阻随着N2含量的提高呈逐渐下降的趋势。
陈尔东王聪杨海刚朱开贵
关键词：直流磁控溅射迟滞回线吸收光谱
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