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刘蒙

作品数：1 被引量：8H指数：1
供职机构：沈阳药科大学药学院更多>>
相关领域：医药卫生更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇医药卫生

主题

  • 1篇印迹聚合物
  • 1篇灭多威
  • 1篇聚合法
  • 1篇分子
  • 1篇分子印迹
  • 1篇分子印迹聚合...
  • 1篇沉淀聚合法

机构

  • 1篇沈阳药科大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇赵春杰
  • 1篇张红
  • 1篇王颜红
  • 1篇周强
  • 1篇刘蒙

传媒

  • 1篇沈阳药科大学...

年份

  • 1篇2016
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
沉淀聚合法制备灭多威分子印迹聚合物及其性能考察被引量：8
2016年
目的制备灭多威分子印迹聚合物,并考察聚合物的吸附量、选择性等相关性质。方法利用沉淀聚合法合成灭多威分子印迹聚合物,并采用红外光谱法研究聚合物的结构和结合位点,最后利用UPLC法检测灭多威浓度以表征聚合物的吸附量和选择性。结果制备的灭多威分子印迹聚合物吸附平衡时间为3h,最大吸附量Qmax=132.47μmol·g-1,且具有较好的选择吸附作用。结论制备的灭多威分子印迹聚合物具有很高的吸附性,而且在结构相似底物混合存在情况下对灭多威保持较好的选择性,为复杂的实际样品分析提供了条件。
刘蒙刘珺王颜红周强张红赵春杰
关键词：沉淀聚合法灭多威分子印迹聚合物
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